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台积电重金投入R&D 专注20nm与14nm工艺研发

导读: 尽管竞争对手三星和英特尔分别有30亿美元和50亿美元的R&D投入,但他们的这部分预算是包括设备研发的,而台积电主要专注于工艺研发。

  据报道,2012年台积电准备为其R&D投入13亿美元,作为本年度资本支出预算中的一部分。

  去年,台积电的R&D预算首次突破10亿美元。而今年多出的30%将会用于20nm和14nm工艺研发。20nm工艺预计今年可以投产,而14nm则预计在2014年投产。

  而非R&D方面的资本支出预算主要在扩大28nm工艺产能同时引入20nm方面。

  尽管竞争对手三星和英特尔分别有30亿美元和50亿美元的R&D投入,但他们的这部分预算是包括设备研发的,而台积电主要专注于工艺研发。

  台积电2012年市场份额预计为170亿美元,在一定程度上与英特尔的500亿美元和三星的300亿美元相比稍逊一筹。

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