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凸版光掩模有限公司批准在中国建设65纳米至14纳米生产线项目

导读: 全球业界首选光掩模合作伙伴Toppan Photomasks, Inc. (TPI)今天宣布批准对近期扩建的中国上海厂的下一阶段投资计划;该厂由TPI独资子公司TPCS运营。TPI将对此工厂再投资8000万美元以展现其对中国快速成长的半导体产业及客户之长期承诺。

  OFweek电子工程网讯 全球业界首选光掩模合作伙伴Toppan Photomasks,Inc. (TPI)今天宣布批准对近期扩建的中国上海厂的下一阶段投资计划;该厂由TPI独资子公司Toppan Photomasks Company Limited, Shanghai (TPCS)运营。TPI将对此工厂再投资8000万美元以展现其对中国快速成长的半导体产业及客户之长期承诺。TPI先前已投资2000万美元扩建上海二厂(TPCS Shanghai II);该厂现已量产并且为中国唯一提供全方位技术及产品的商业光掩模厂。

  TPI执行长Mike Hadsell表示:“相较于其他供货商,上海厂除了提供中国客户缩短两天周期的优势外,并有利于加速客户攻占市场的时效。今天的宣布除了以上优势,并扩大光掩模生产能力至28纳米。上海厂的先进技术也将更进一步延伸至14纳米,以符合中国半导体市场快速演进的需求。此外,上海厂区也有足够的扩建空间以支持客户在未来十年甚至更长远的产能需求。”

  现扩展的上海二厂坐落于目前公司营运地(上海漕河泾开发区),除了拥有先进的一级无尘室及设备外,并有利于下一阶段的扩展计划。此阶段的生产能力及技术将聚焦于65至14纳米的逻辑与先进内存(DRAM及NAND)。待今日宣布的计划完成后,仍将有40%的无尘室空间以作为日后扩展所需。
 

责任编辑:Trista
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