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台积电为半导体湿式制程研发纳米微粒监控系统

导读: 在制程良率的提升上,半导体业者却可能面临“看不见”的难题。中国台湾地区工研院与台积电合作开发的“新世代溶液中纳米微粒监控系统”,就是这双新眼睛。

半导体制程持续微缩,量产技术已达14纳米,半导体大厂更朝10纳米、7纳米迈进,连5纳米也在规划中。然而,在制程良率的提升上,半导体业者却可能面临“看不见”的难题。中国台湾地区工研院与台积电合作开发的“新世代溶液中纳米微粒监控系统”,就是这双新眼睛。

在半导体湿式制程中,晶圆表面的清洗、蚀刻与研磨皆需仰赖特定化学溶液进行,而溶液中纳米粒子的尺寸与分布会影响晶圆电路图案(pattern)的制程结果,因此必须持续监控溶液中粒子大小及数量,只要发现溶液粒子不符规格,就要马上暂停及更换,以维持产品良率。

台湾工研院量测技术发展中心何信佳博士指出,传统的雷射光学设备“看不到”化学溶液中40纳米以下的微粒,因此,半导体业者需拥有一双能真正看得到更小微粒的“新眼睛”。

台积电想利用量测气体粒子的方法量测制程化学溶液,且必须能够24小时连续在产线上进行监测。台积电先是向美国知名研发机构NIST求援,该机构专家转而向台积电推荐曾在2010年前往NIST研究的何信佳。

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