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7nm制程推进有速 EDA业者快步跟上

导读: 随着一线晶圆代工业者的7奈米制程即将陆续进入试产、量产阶段,电子设计自动化也快速跟上,针对7奈米及12奈米制程提供各种对应解决方案。 EDA业者明导国际宣布,该公司的Calibre设计工具平台,包含设计规范检查(DRC)、多重曝光、布局绕线工具等,已通过台积电的...

随着一线晶圆代工业者的7奈米制程即将陆续进入试产、量产阶段,电子设计自动化(EDA)也快速跟上,针对7奈米及12奈米制程提供各种对应解决方案。 EDA业者明导国际(Mentor Graphics)宣布,该公司的Calibre设计工具平台,包含设计规范检查(DRC)、多重曝光(Multi-Patterning)、布局绕线(P&R)工具等,已通过台积电的12奈米FFC及7奈米V1.0制程认证。 Calibre现在已可支持最新的TSMC 12FFC制程设计协助客户的设计。 此外,AFS电路验证平台,包括AFS Mega,技术已成熟(readiness)可支持12FFC技术与台积电建模接口(TMI)。

对于台积电 7奈米制程,完整的Calibre实现套件现已更新至V1.0版本,适用于客户的生产设计交付制造。 历经数回的改版发表,台积电与明导持续合作提升Calibre DRC 执行效能。 目前的V1.0版本与初期的版本相比,执行速度已显着提升。

可靠度是现今许多电子产品成功的关键因素。 台积电与明导国际扩展其合作关系至7奈米制程,可提供完备的静电放电(ESD)与闩锁(latch-up)问题验证,这些都会对可靠的效能与产品使用寿命带来影响。 此合作关系也造就了Calibre PERC工具中的多CPU运算功能发展,能被用来进行全设计的点对点(P2P)阻抗和电流密度(CD)检查。

工程变更指令(ECO)通常都会在设计流程的后期才发生,而影响了交付制造的时程。 为了加速双方客户达到设计收敛的能力,台积电与明导国际合作,扩展Calibre YieldEnhancer ECO填充流程从20奈米一直到最新的7奈米技术。 ECO填充流程能让客户快速管理最后阶段的设计变更,并确保变更仍能符合台积电的制造需求。

AFS平台,包括AFS Mega电路仿真器,已通过台积电7奈米V1.0制程认证。 全球领先半导体业者的模拟、混合讯号与RF设计团队都将获益于采用AFS平台,以有效地验证使用台积电的最新技术所设计的芯片。

明导的Nitro-SoC P&R平台已进一步增强,可满足台积电7奈米设计实现与认证的所有需求。 明导还展现了其7奈米技术的成熟度,透过利用Nitro-SoC P&R平台成功地建置了ARM处理器,现已可供客户使用。

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