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后10nm时代已到来 7nm制程还会远吗?

导读: 今年对于10nm来说是至关重要的一年,不过英特尔在年初发布的新处理器依旧采用14nm工艺,英特尔似乎也和台积电、三星一样陷入了良率不佳的问题。在不久前,台积电就被曝出10nm工艺良率太低的问题,虽然台积电随后出面否认,不过要真正将10nm推荐似乎还有不少的问题...

OFweek电子工程网讯 今年对于10nm来说是至关重要的一年,不过英特尔在年初发布的新处理器依旧采用14nm工艺,英特尔似乎也和台积电、三星一样陷入了良率不佳的问题。在不久前,台积电就被曝出10nm工艺良率太低的问题,虽然台积电随后出面否认,不过要真正将10nm推荐似乎还有不少的问题,不过可以肯定的是,今年10nm量产不会是太大的问题。

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三星Exynos处理器

近日,在上海举办的中国国际半导体技术大会(CSTIC)上,三星电子就展示了自己的半导体工艺路线图,并提到了7nm、5nm工艺,三星在会上明确表示他们分别在2018年、2020年投入量产。三星和台积电的10nm工艺均是主打高效能、低功耗的移动芯片产品,并不能胜任桌面级处理器的需求,不过三星的7nm工艺则会面向高性能芯片市场,包括CPU、GPU、AI、服务器、ADAS(先进驾驶辅助系统)均可以使用。

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集成电路

在去年的14nm工艺上,AMD处理器代工厂格罗方德正是向三星购买了14nm FinFET工艺,并在今年年初发布的Ryzen处理器上大获成功。三星7nm技术一旦成熟,AMD也刻意非常快的将制程工艺转进到7nm,因为格罗方德已经放弃了10nm工艺,直奔7nm而去。

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半导体工艺结构

三星表示,随着半导体工艺走向后10nm时代,半导体制造商所面临的制程挑战会越来越严峻,尤其是如何保证足够高的良品率。为此,三星特别提出了环绕栅极场效应晶体管(GAA FET)技术,该技术将用在三星7nm、5nm工艺上。另外,三星在今年将会投资8万亿韩元,用于加快10nm、7nm制程工艺的制造与研发。其中三星已经向ASML订购了8台EUV极紫外光刻机,极紫外线光刻机的技术将要取得突破,一旦该技术成熟,三星就会立即使用。

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英特尔

现在要讨论7nm的量产其实为时过早,因为预计在今年第一度量产的三星和台积电纷纷在良率上出现了问题,虽然官方已经出面辟谣,不过行业供应链上的消息也似乎在指向良率并不理想,亟待改善。相比三星,台积电的压力就要小很多,他们最大的客户苹果会在今年9月才发布新品,而高通骁龙835预计要再第二季度大量出货。至于英特尔,这么多年无欲无求的他们自然不会太关心制程更新的问题,毕竟无敌也是一种寂寞。

责任编辑:Moon
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