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明导和ST共同推出20nm晶片技术

2010-05-29 11:29
九一隐士
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     稍早前,明导国际(Mentor Graphics)宣布加入意法半导体(ST)一项名为Nano 2012 DeCADE的计划,并表示,将共同就先进制程的SoC开发展开广泛合作,推动晶片设计技术从32nm前进到20nm及更先进制程节点。

    DeCADE是一项为期三年的专案,旨在开发先进的SoC设计方案,范围涵盖了数位和类比设计。而针对这些复杂SoC开发所需的工具及方法学,明导国际Calibre设计解决方案行销总监Michael Buehler-Garcia表示,将与ST就撷取、电感、LFD、微影和P&R等技术方面扩大合作。

    随着晶片制程技术逐渐过渡到45nm,晶片本身的复杂度和日益庞大的规模,使得整个设计过程从一开始就面临着更多的不确定性,例如,随着晶片规模扩大而增加的设计规则,都为45nm及以下制程的晶片设计添加了更多风险。

    DeCADE将提供核心CMOS技术所需的设计解决方案,预计将能从根本改革晶片的设计,包括晶片规模、性能,以及开发一个系统级解决方案的成本在内。这个专案涉及的范围还将包括射频和无线技术,以及3D封装和晶片堆叠等。

    透过与拥有晶片设计及制造的IDM业者的合作,明导希望为45nm以下甚至到20nm制程世代的晶片设计建构一条更容易通往设计成功的道路。“与纯晶圆厂相比,ST作为合作夥伴更具优势,因为他们拥有大量的晶片开发和测试经验,”Buehler表示。

    针对这项专案,Mentor也在法国Crolles雇用了专属工作人员,以推动该计画的发展。
 

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