侵权投诉
当前位置:

OFweek电子工程网

工艺/制造

正文

EUV需求看俏 ASML频传捷报

导读: 全球最大芯片光刻设备市场供货商阿斯麦 (ASML) 公布最新2017第二季财报。ASML表示,由于不论逻辑芯片和DRAM客户都积极准备将EUV导入芯片量产阶段,EUV光刻机目前第二季已累积27台订单总计28亿欧元。

全球最大芯片光刻设备市场供货商阿斯麦 (ASML) 公布最新2017第二季财报。ASML表示,由于不论逻辑芯片和DRAM客户都积极准备将EUV导入芯片量产阶段,EUV光刻机目前第二季已累积27台订单总计28亿欧元。

ASML 第二季营收净额 (net sales)21亿欧元,毛利率(gross margin)为45%。在第二季新增8台EUV系统订单,让EUV光刻系统的未出货订单累积到27台,总值高达28亿欧元。

ASML预估2017第三季营收净额(net sales)约为22亿欧元,毛利率(gross margin)约为43%。因为市场需求和第二季的强劲财务表现,ASML预估2017全年营收增长可达25%。

ASML总裁暨执行长温彼得Peter Wennink表示,ASML今年的主要营收贡献来自内存芯片客户,尤其在DRAM市场需求的驱动下,这部分的营收预估将比去年增长50%,而来自逻辑芯片方面的营收也可望增长15%。

此外,ASML近年来积极推行系统升级业务,该部分的营收贡献可望在今年成长 20%。Peter Wennink指出,综合市场和各业务领域“捷报”,认为这一成长动能将可延续到2018年。

在产品线方面,深紫外光( DUV )光刻推出最新浸润式光刻系统TWINSCAN NXT: 2000i,具备多项硬件技术创新,让客户得以在7纳米和5纳米制程节点上,同时用浸润式光刻和EUV系统进行量产,并达到2.5纳米的迭对精度( on-product overlay )。

另一方面,3D NAND客户对于KrF干式光刻系统的需求持续升高,目前 TWINSCAN XT:860的未出货订单已累积超过20台。TWINSCAN XT:860系统的生产力可达到每天曝光5,300片晶圆。

极紫外光( EUV )光刻机方面,荷兰总部已经成功升级的EUV光源整合进 NXE:3400B系统中,并达成每小时输出125片晶圆的生产力指标。日前ASML则宣布EUV光源已可达250W,已突破最关键的量产技术环节。ASML预计在第三季会有3台NXE:3400B EUV光刻系统完成出货。

至此,ASML指出,EUV系统已经成功达成所有计划中的关键效能指标,下一阶段,将专注于达成满足客户在量产时所需的相关可靠度(availability) 指标,并持续提升系统生产力。

展望2017年第三季,ASML预估整体销售净额可达22亿欧元,毛利率约落在 43%,其中包含约3亿欧元的EUV营收认列。

声明: 本文由入驻维科号的作者撰写,观点仅代表作者本人,不代表OFweek立场。如有侵权或其他问题,请联系举报。

我来说两句

(共0条评论,0人参与)

请输入评论内容...

请输入评论/评论长度6~500个字

您提交的评论过于频繁,请输入验证码继续

暂无评论

暂无评论

文章纠错
x
*文字标题:
*纠错内容:
联系邮箱:
*验 证 码:

粤公网安备 44030502002758号