侵权投诉
订阅
纠错
加入自媒体

重磅!国产5nm刻蚀机通过验证,将用于台积电5nm芯片制造!

2018-12-18 11:40
来源: 芯智讯

近日,台积电对外宣布,将在2019年第二季度进行5nm制程风险试产,预计2020年量产。与此同时,中微半导体也向“上观新闻”透露了一个重磅消息,其自主研发的5nm等离子体刻蚀机经台积电验证,性能优良,将用于全球首条5nm制程生产线。

值得一提的是,中微半导体也是唯一进入台积电7nm制程蚀刻设备的大陆本土设备商。据悉,中微半导体与台积电在28nm制程时便已开始合作,并一直延续到10nm和7nm制程。

而中微半导体如此亮眼成绩的背后,离不开尹志尧和他团队的多年努力。

他放弃国外百万年薪工作,只为一颗“中国芯

研究显示,2015-2020年中国半导体芯片产业投资额将达到650亿美元,其中芯片制造设备投资额就将达到500亿美元。但是中国芯片制造设备的95%都是依赖于进口,也就是说需要花480亿到国外购买设备。这也使得中国芯片制造设备的国产化成为了一件非常迫切的事情。

在美国硅谷从事半导体行业20多年的尹志尧,其在世界最大的半导体设备企业——美国应用材料公司担任总公司副总裁,曾被誉为“硅谷最有成就的华人之一”,参与了美国几代等离子体刻蚀机的研发,拥有60多项技术专利。

2004年,当时已经60岁的尹志尧放弃了美国的百万年薪,带领三十多人的团队,冲破美国政府的层层审查(所有人都承诺不把美国的技术带回中国,包括所有工艺配方、设计图纸,一切从零开始),回国创办了中微半导体,他要在芯片制造设备领域与国际巨头直接竞争,取得一席之地。

成功打破国外垄断

等离子体刻蚀机是芯片制造环节的一种关键设备,其是在芯片上进行微观雕刻,刻出又细又深的接触孔或者线条,每个线条和深孔的加工精度是头发丝直径的几千分之一到上万分之一。这对刻蚀机的控制精度要求非常高。

据介绍,一个16nm的微观逻辑器件有60多层微观结构,要经过1000多个工艺步骤,要攻克上万个技术细节才能加工出来。只看等离子体刻蚀这个关键步骤,它的加工尺度为普通人头发丝的五千分之一,加工的精度和重复性要达到五万分之一。足见难度之高。

长期以来,蚀刻机的核心技术一直被国外厂商所垄断。2004年尹志尧回国创办中微半导体之初就将目光锁定在了刻蚀机领域。

中微半导体在刚刚涉足IC芯片介质刻蚀设备时,就推出了65nm等离子介质刻蚀机产品,随着技术的进步一直做到45nm、32nm、28nm、16nm、10nm,现在7nm的刻蚀机产品已经在客户的生产线上运行了,5nm刻蚀机也即将被台积电采用。

“在米粒上刻字的微雕技艺上,一般能刻200个字已经是极限,而我们的等离子刻蚀机在芯片上的加工工艺,相当于可以在米粒上刻10亿个字的水平。”中微半导体CEO尹志尧曾这样形容到。

经过多年的努力,中微半导体用实力打破了这一领域技术封锁,成功让中国正式跻身刻蚀机国际第一梯队。

中微半导体首席专家、副总裁倪图强博士表示,刻蚀机曾是一些发达国家的出口管制产品,但近年来,这种高端装备在出口管制名单上消失了。这说明如果我们突破了“卡脖子”技术,出口限制就会不复存在。如今,中微与泛林、应用材料、东京电子、日立4家美日企业一起,组成了国际第一梯队,为7nm芯片生产线供应刻蚀机。

(芯智讯注:美国商务部在2015年宣布,由于在中国已有一个非美国的设备公司做出了和美国设备公司有相同质量和相当数量的等离子体刻蚀机,所以取消了对中国的刻蚀机的出口管制。)

他还表示,明年台积电将率先进入5nm制程,已通过验证的国产5nm刻蚀机,预计会获得比7nm生产线更大的市场份额。

值得一提的是,2016年,中微半导体获得国家集成电路产业基金(大基金)4.8 亿元的投资,成功成为中国芯片制造领域的国家队。而这也凸显了国家对于中微半导体在中国半导体设备领域的贡献和地位的认可。

1  2  3  下一页>  
声明: 本文系OFweek根据授权转载自其它媒体或授权刊载,目的在于信息传递,并不代表本站赞同其观点和对其真实性负责,如有新闻稿件和图片作品的内容、版权以及其它问题的,请联系我们。

发表评论

0条评论,0人参与

请输入评论内容...

请输入评论/评论长度6~500个字

您提交的评论过于频繁,请输入验证码继续

暂无评论

暂无评论

电子工程 猎头职位 更多
文章纠错
x
*文字标题:
*纠错内容:
联系邮箱:
*验 证 码:

粤公网安备 44030502002758号