形势严峻：光刻胶自给率仅28%，日本垄断全球80%
目前的大规模芯片制造工艺，均是光刻工艺。
而光刻工艺中，最重要的是设备是光刻机，而必须的材料则是光刻胶，光刻机、光刻胶、光刻工艺是一一对应的。
光刻机分为G线I线，KrF，EUV等，光刻胶也是这样划分的，对应着不同的工艺，不能混用。
大家也都清楚，目前在光刻胶领域，我们对外依赖严重，以前我们的光刻胶自给率都不么10%，90%以上靠进口。
这几年中国光刻机不断的突破，但实际上自给率也不太高，数据显示，2024年时中国光刻胶整体国产化率为23.1%，而到2025年时，提高到了28.3%。
但是，这只是整体数据，具体来看，结构性分化严重一-g/i线已达65.4%，KrF达22.7%，而ArF浸没式不足3%,EUV为零。
越高端的，我们的份额越差，最高端的EUV，我们份额为0，真正能够替代的，只是低端产品而已。
而光刻胶最厉害的，大家自然也清楚，那必须是日本。
按照机构的数据，日本企业占了全球80%的市场，再是美国占了5%，中国企业只占了全球3%左右的市场，中国与日本相比，差的实在是太远了。
日本有很多在光刻胶领域很强的企业，比如东京应化、JRS、信越化学、富士电子材料、住友化学等，这些都排在最前面。
并且，全球EUV光刻胶，只有日本能造，其它国家都造不出来，完全掌握在日本企业手中，可见日本在这一块有多厉害了。
更重要是，日本最近一直在搞风搞雨的，不时的传出要断供光刻胶的消息，一旦断供，对中国的晶圆企业影响还是蛮大的。
对于65nm及以上的这种成熟芯片，影响可能不太大，但是对于40nm及以下的先进工艺，影响还是较大的，毕竟我们自己制造不出来，一旦断供了，可怎么办？
上图是如果真的断供，对不同的工艺，以及对国内的一些企业的影响，大家可以看到，对有些企业的风险还是相当高的，比如中芯的N+2、N+3这些先进工艺，那确实影响不小。
所以说，在光刻胶这一块，我们还有很多课要补，不说马上要把EUV搞出来，至少要先达到14nm、7nm这样的水平才行，才能不怕被日本断供，你觉得呢？
上图是机构给出的国产化突破时间表，预计到2027年，我们在浸润式光刻胶这一块，可以达到5-10%的国产化，但EUV依然是为。
预计要到2030年，才有可能实现EUV零的突破，预计要到2035年才不怕被断供，所以形势在目前还是很紧张的。
原文标题 : 形势严峻：光刻胶自给率仅28%，日本垄断全球80%
分享
图片新闻
最新活动更多
-
9月8日立即报名>> 【深圳】2026英飞凌消费、计算与通讯创新大会
-
9月9日立即观看>> 【在线直播】立讯技术思享汇:当算力穿越物理边界
-
9月9-10日观看直播>> 2026CIOE中国光博会OFweek维科网VIP企业展台直播
-
9月10日立即观看>> 东芯半导体全系产品ELEXCON现场直播探展
-
即日-9.10立即预约>> 【线上直播】松下透明导电膜车载应用在线研讨会
-
即日-9.24立即报名>> 【在线会议】COMSOL多物理场仿真在医疗设备研发中的应用
推荐专题
- 1 A股半导体市值登顶，“酱香科技”交棒“AI科技”
- 2 美国拿下全球53%芯片市场，创40年最高纪录，中国大陆仅6%？
- 3 形势严峻：1-7月，中国芯片进出口逆差增大了1700亿元
- 4 世维通陈松地产出身，IPO前变现7500万
- 5 寒武纪中报AB面：营利双增，增长红利与经营压力并存
- 6 华为26H1财报彻底走出被制裁负面影响：营收创同期历史新高，研发投入超1200亿！
- 7 刚刚！中芯国际Q2财报出炉，净利润增长近400%
- 8 迈威尔 Marvell：比不了英伟达、撑不起期待，高估值先 “挤水分”？
- 9 国产UWB芯片创企连发四颗芯片，六大核心指标拉满，抢占下一代UWB标准先机
- 10 狂赚23亿后，寒武纪要给员工发“7年工资”
发表评论
登录
手机
验证码
手机/邮箱/用户名
密码
立即登录即可访问所有OFweek服务
还不是会员？免费注册
忘记密码其他方式
请输入评论内容...
请输入评论/评论长度6~500个字
暂无评论
暂无评论