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国产光刻机公开后,ASML慌了,请求美国放开限制,自由贸易

目前几乎所有的芯片制造技术,均是基于光刻工艺来的。

而光刻工艺中,最重要的设备,就是光刻机。目前全球仅4家厂商,拥有前道光刻机生产能力,分别是荷兰的ASML、日本的佳能、尼康,中国的上海微电子。

不过市场主要被ASML垄断,其份额超过了85%,尼康、佳能又占了15%左右,上海微电子的份额几乎为0。

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特别是EUV光刻机,ASML垄断100%,高端浸润式DUV光刻机,ASML垄断95%,另外5%为尼康占领,也就是说,从浸润式DUV光刻机开始,几乎全是ASML说了算。

而为了控制全球芯片市场,美国不允许ASML的光刻机随便卖,特别是EUV光刻机、浸润式DUV光刻机,要销售给谁,需要美国的许可证,美国就是通过这样的办法,来制霸全球,来限制中国芯片产业的发展。

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而在这样的情况之下,中国厂商当然不会投降,也是努力的研发自己的光刻机,一旦国产光刻机突破,那么我们就不必依然从国外进口了,国产芯片产业也就再也不受限制,美国的禁令就成废纸了。

之前我们的光刻机技术,其分辨率已经达到了90nm,处于干式DUV阶段。

而近日,又一台国产光刻机曝光,采用193nm波长光源,分辨率小于等于65nm,套刻精度小于等于8nm,可用于12寸晶圆的制造。

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这台光刻机,虽然还是干式DUV,没有进入浸润式DUV的阶段,但在所有的干式DUV光刻机中,处于顶级水准了。

按照业界人士的预测,通过多重曝光,也许达不到28nm,但也不会太远了,这意味着中国光刻机,前进了一大步,接下来如果顺利的话,很快就会进入浸润式DUV,甚至是EUV光刻机阶段。

中国是ASML的最大客户,数据显示,2023年,中国从ASML买了600亿元的光刻机,而2024年一、二季度,中国贡献了49%,也是几百亿元。

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所以,不仅是对于ASML而言,对于整个荷兰都是如此,一旦中国自研光的光刻机,能够替代ASML的光刻机了,那荷兰和ASML就损失大了。

所以近日,有媒体报道称,荷兰经济事务大臣贝尔亚尔茨访美时,请求美国允许ASML尽量自由的开展业务,意思很明显,就是一些光刻机能够放开限制,让ASML想卖就能卖,别再卡了,特别是针对中国的光刻机禁令,最好放松一些。

事实上,ASML的前CEO温克宁之前就表示过,一旦限制光刻机卖给中国,那么中国只要过几年,什么样的光刻机都能搞出来,如今看来,温克宁的预言,正在成为现实,压力已经给到ASML、荷兰和美国了。

       原文标题 : 国产光刻机公开后,ASML慌了,请求美国放开限制,自由贸易

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