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三星将于2018年推出7nm和11nm半导体工艺

导读: 11nm LPP工艺,性能比此前的14nm提升了15%,单位面积的功耗降低了10%。

三星宣布,新加入了11nm LPP工艺,性能比此前的14nm提升了15%,单位面积的功耗降低了10%。三星将于9月15日在东京举办的半导体会议上公布,未来的技术还会有所提升。

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三星表示,10nm用于旗舰手机,11nm用于中高端,来提供给不同需求,预计2018年上半年在市场投放。与此同时,三星也成为了市场上最先确认7nm的企业,其7nm LPP定于2018下半年量产,采用EUV极紫外光刻技术。

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