三星将于2018年推出7nm和11nm半导体工艺
2017-09-13 09:25
尖端科技
关注
三星宣布,新加入了11nm LPP工艺,性能比此前的14nm提升了15%,单位面积的功耗降低了10%。三星将于9月15日在东京举办的半导体会议上公布,未来的技术还会有所提升。
三星表示,10nm用于旗舰手机,11nm用于中高端,来提供给不同需求,预计2018年上半年在市场投放。与此同时,三星也成为了市场上最先确认7nm的企业,其7nm LPP定于2018下半年量产,采用EUV极紫外光刻技术。
声明:
本文由入驻维科号的作者撰写,观点仅代表作者本人,不代表OFweek立场。如有侵权或其他问题,请联系举报。
图片新闻
最新活动更多
-
4月30日免费下载 >> SPM31智能功率模块助力降低供暖和制冷能耗,打造可持续未来!
-
4月30日限时免费下载>> 高动态范围(eHDR)成像设计指南
-
5月10日立即下载>> 【是德科技】精选《汽车 SerDes 发射机测试》白皮书
-
5月16日火热报名>>> OFweek锂电/半导体行业数字化转型在线研讨会
-
5月22日立即报名>>> OFweek 2024新周期显示技术趋势研讨会
-
5月28日立即观看>> 【在线研讨会】Ansys镜头点胶可靠性技术及方案
发表评论
请输入评论内容...
请输入评论/评论长度6~500个字
暂无评论
暂无评论