台积电南京工厂产能爆发：制程技术以12nm及16nm为主

2020-11-24 09:17

由于国内客户需求的激增,台积电在国内工厂产能也是爆发。

据中国台湾媒体报道,半导体巨头台积电南京厂目前月产能已达成原定2万片目标,而之前依计划扩增南京厂产能,今年月产能已由1．5万片扩增至2万片,制程技术以12nm及16nm为主。

此前有消息称,台积电决定启动南京厂第2期扩建,并以28nm制程为主。对于这个消息,台积电表示,目前南京厂尚无进一步扩产具体计划。

台积电财报显示,台积电南京厂去年即转亏为盈,全年获利新台币12．89亿元(约合人民币 2．97 亿元)。随着产能规模扩大,今年前3季获利扩增至新台币91．29亿元(约合人民币21亿元)。

此前还有媒体报道称,为了保持领先,台积电已经下单订购了至少13台ASML的Twinscan NXE EUV光刻机,将会在2021年全年交付,不过具体的交付和安装时间表尚不清楚。同时,明年台积电实际需求的数量可能是高达16到17台EUV光刻机。

目前,台积电使用ASML的Twinscan NXE EUV光刻机在其N7+以及N5节点上制造芯片,但在未来几个季度,该公司将增加N6(实际上将在2020年第四季度或2021年第一季度进入HVM)以及同样具有EUV层的N5P工艺。台积电对EUV工具的需求正在增加是因为其技术越来越复杂,更多地方需要使用极紫外光刻工具处理。台积电的N7+使用EUV来处理最多4层,以减少制造高度复杂的电路时多图案技术的使用。

作者:雪花来源:快科技