国产EUV光刻机,万众瞩目,成美国芯片禁令的破局点
虽然有什么NIL纳米压印技术、又有什么BLE电子束技术,但是,目前在芯片的大规模制造中,全部是采用光刻技术。
而在芯片制造的光刻技术中,最重要的就是光刻机,没有替代品。
全球光刻机市场,主要掌握在三家厂商手中,分别是荷兰的ASML,一家占到85%的份额,另外两家是日本的尼康、佳能,这两家占了15%左右的份额。
中国大陆也有一家光刻机厂商,那就是上海微电子,不过份额几乎可以忽略,接近无零。上海微电子对外公开的光刻机,还停留在90nm,技术相对落后,另外就是上海微电子的光刻机,很多用于后道工序,也就是封测这一块,前道制造上,应用的少。
所以,美国就联手日本、荷兰,对光刻机进行封堵,不准EUV光刻机卖给中国,后来更是不准高端的浸润式DUV光刻机卖给中国,为的就是限制中国芯片制造产业的发展。
近日,美国更是改动了史上最大规模的制裁,140家企业,24种设备,3种软件,还有HBM内存,全部进行制裁。
在这样的情况之下,我们有什么办法来破局?我觉得只有研发出EUV光刻机,那么一切禁令都成废纸,没有任何意义了。
一旦我们拥有了EUV光刻机,那么就意味着我们自己能够制造5nm及以下的芯片了,那么美国限制先进的芯片,设备等卖到中国来,就相当于自我放弃了中国这个最大的市场。
如果我们研发不出EUV光刻机,而ASML的EUV光刻机我们买不到,就代表着我们就无法制造5nm及以下的芯片,那么我们就有求于美国,美国就能够一直用禁令来卡我们,限制我们。
那么,我们什么时候才能研发出EUV光刻机?时间可能并不会太短。
前段时间,国内曝光了一台光刻机,采用193nm波长的光源,分辨率是小于等于65nm,套刻精度是小于等于8nm,这台光刻机,实际上还是DUV光刻机,还不能算是浸润式。
之后还要进入浸润式光刻机,然后再进行EUV光刻机,还需要进步至少两代才行,所以难度还是有点大的,但我们没有退路,必须研发出来才行。
原文标题 : 国产EUV光刻机,万众瞩目,成美国芯片禁令的破局点
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