ASML的光刻机,难以成为美国控制全球芯片的工具了
不管大家承认不承认,虽然ASML是荷兰的,但其实它更像是美国的,因为它听美国的话,美国让它不卖给谁,它不敢不听。
所以ASML的EUV光刻机,不卖给中国、俄罗斯等国家,后来连浸润式DUV光刻机,也进行了限制,不能随便卖,需要许可证。
而光刻机,是当前芯片制造中最重要的设备,所以通过控制光刻机,美国实现了对全球芯片产业的控制,光刻机就是美国控制全球芯片产业的工具。
比如美国想支持英特尔、台积电、三星的发展,就允许这三家厂商从ASML大量购买EUV光刻机,想限制谁的发展,就不准ASML卖EUV光刻机给谁。
但是,从现在的情况来看,这个工具会慢慢的失效了,恐难再成为美国控制全球芯片产业的工具了。
一方面是ASML的光刻机,陷入发展困境了。
随着芯片技术越来越先进,ASML的EUV光刻机,也是越来越先进,越来越贵。但其实ASML的EUV光刻机,现在提升是越来越困难了。
各种技术的挖掘,都差不多到物理极限了,能够提升分辨率的因素,都难有提升,所以新款越来越难推出了,价格也越来越贵,让人没法接受了。
二是中国的光刻机有了突破。
这个估计大家都清楚了,我们之前已经曝光了DUV光刻机,离浸润式DUV已经是只差最后一步了,一旦突破了浸润式DUV光刻机,美国就控制不住了,因为浸润式DUV,最高也能够制造7nm,甚至5nm的芯片的。
那么管制ASML的光刻机,又有什么意义呢?只会让ASML的业绩难看而已。
三是各种各样的新技术出现,光刻机有被取代的风险
佳能推出了NIL纳米压印技术,不需EUV,也能制造5nm芯片了,还有电子束光刻技术,DSA自生长技术,目前这些技术,都在突破的临界点。
一旦这些技术突破,那EUV光刻机也不那么重要了,大家有了更多的选择,难道美国可以将所有的这些技术都禁了么?应该还是做不到吧。
再加上新的封装技术出现,以及Chiplet小芯粒技术,还有光电芯片、碳基芯片等的出现,让芯片的性能,不再只有先进工艺这一条路可走,有了更多办法,在不利用先进光刻机的情况下,也能提高性能。
所以说,ASML的光刻机,恐怕是越来越难以成为美国控制全球芯片产业的工具了,而这也是我们,甚至是全球想看到的希望,毕竟大家都希望半导体贸易自由化,而不是在美国的掌握之下。
原文标题 : ASML的光刻机,难以成为美国控制全球芯片的工具了
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