DUV
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制裁扩大化,荷兰拟实施DUV出口新规
前言: 在美国持续施压对华禁运关键半导体技术的情况下,荷兰政府正准备对半导体设备实施新的出口限制。 荷兰方面已将光刻机出口管制的范围,由最先进的极紫外光刻机(EUV)扩大到了DUV。 ASML更先进的EUV光刻机已经于2019年就禁止向中国销售
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一线生机!ASML高端DUV光刻机可以出口:还能支持7nm
对于ASML光刻机接下来怎么出口的问题,现在官方终于给出了答案。 ASML在最新的声明中指出,这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术,包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。 ASML强调,新
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美国拟禁止ASML对华出售DUV光刻机
7月6日,据彭博社报道,美国政府正在要求荷兰政府扩大半导体制造设备的禁售范围。报导表示,美国正推动的限制将扩大当前对大陆禁止出售相关技术的范围。一旦荷兰方面同意,这将大大大陆取得相关技术的范围与类别,也将对大陆相关的半导体厂商,包括中芯国际或华虹半导体造成严重的打击
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上海微电子或将推出DUV光刻机用于28nm芯片
众所周知,光刻机是卡住国产芯片制造的重要设备之一。目前国内的芯片制造企业们,使用的光刻机绝大部分是ASML进口,还有部分是从佳能进口的。特别是高端一点的光刻机,比如193nm ArF浸润式光刻机,可用于14nm,就只能从ASML进口
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ASML大量出售DUV光刻机,或将打压中国的光刻机产业
全球最大的光刻机企业ASML表示DUV光刻机系统不需要向美国申请出口许可,它将向中国大量出售DUV光刻机,在中国建立合资工厂,强化与中国加强合作,这被视为它向中国释放善意。中国最大的芯片制造企业中芯国际已投产14nmFinFET工艺
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