EUV

国产EUV光刻机，万众瞩目，成美国芯片禁令的破局点

虽然有什么NIL纳米压印技术、又有什么BLE电子束技术，但是，目前在芯片的大规模制造中，全部是采用光刻技术。而在芯片制造的光刻技术中，最重要的就是光刻机，没有替代品。全球光刻机市场，主要掌握在

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-12-09

美国阻止中国大陆诞生台积电、英伟达，国产EUV光刻机成关键了

如果是关注芯片产业的人，应该都清楚，最近这5年以来，美国对中国半导体的打压是越来越厉害。之前各项禁令的目标，明确是要锁死我们的逻辑芯片在14nm，DRAM在18nm，NAND闪存在128层，然后限制任何能够制造这些先进芯片的设备，出口到中国来

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-12-04

EUV光刻机这么重要，为什么我们不能拆了，1:1山寨出来？

在当前的芯片制造工艺（光刻工艺）下，EUV光刻机是进入7nm芯片工艺以来，必不可少的机器，没有替代品。但EUV光刻机，全球仅有一家企业能够制造，它就是ASML，没有其它的了。所以，制造出EUV

EUV 光刻机 ASML 2024-12-02

EUV光刻机巨头风云争夺战

前言：各大巨头在未来仍将围绕High-NA EUV设备展开激烈竞争，争相导入或宣布市场进展，预示着半导体行业将迎来新一轮技术革新。目前，英特尔、台积电、三星、SK海力士等晶圆制造大厂已纷纷对High-NA EUV光刻机表现出强烈的关注与行动

电子工程 EUV光刻机 ASML 2024-11-28

部署High-NA EUV光刻机，台积电2nm要来了

本文由半导体产业纵横（ID：ICVIEWS）综合采用高NA EUV光刻机对于台积电发展2nm以下工艺至关重要。据悉，台积电预计将于今年年底从ASML接收首批全球先进的芯片制造设备——高数值孔径极紫外（High NA EUV）光刻机

台积电2nm High-NA EUV光刻机 2024-11-25

美国，重金砸向EUV技术

本文由半导体产业纵横（ID：ICVIEWS）综合一场价值不菲的科技豪赌。据报道，美国政府投资价值约10 亿美元的研究中心，以开发下一代极紫外光（EUV）制程技术，挑战荷兰产业领导者艾司摩尔（ASML)

EUV 极紫外光刻机 2024-11-05

佳能NIL设备出货：不需要EUV，制造5nm芯片，成本低90%

目前制造7nm以下芯片，全部采用光刻技术。而EUV光刻机，则是制造7nm以下芯片，必不可少的设备，全球只有ASML一家能够生产，最便宜的EUV光刻机，都需要1.5亿欧元左右一台。而像三星、台积电、

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-09-27

可量产0.2nm工艺！ASML公布超级EUV光刻机：但死胡同也不远了

ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机，同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机，预计可将半导体工艺推进到0.2nm左右，也就是2埃米。 ASML

ASML EUV光刻机 2024-06-17

ASML摊牌：1.4nm、0.5nm、0.2nm芯片时，才要换EUV光刻机

目前ASML对外大规模发售的光刻机叫做标准光刻机，也可称之为LOW NA EUV，意思就是其数值孔径是较低值的，所以称之为LOW，NA=0.33。这种光刻机主要用于7nm及以下芯片的制造，至于往下能够支持到多少纳米？ASML没有说

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-06-16

ASML要慌：EUV光刻机新光源出现，成本降50%，功耗降80%

目前全球仅有ASML一家能够生产EUV光刻机，而制造7nm以下芯片，又必须使用到EUV光刻机，所以ASML相当于卡住了全球先进晶圆厂的脖子。于是ASML推出的1.5亿欧元的标准EUV光刻机，台积电等厂商不得不买，后来再推出3.5亿欧元的High NA EUV光刻机，intel们继续买

ASML 光刻机 EUV 激光器蔡司芯片 2024-06-14

阿斯麦和IMEC联合光刻实验室启用：最早2025年大量生产High NA EUV

快科技6月4日消息，据媒体报道，比利时微电子研究中心（IMEC）与阿斯麦（ASML）宣布在荷兰费尔德霍芬（Veldhoven）开设联合High-NA EUV光刻实验室（High NA EUV Lithography Lab）

阿斯麦 IMEC 2024-06-05

ASML走向“末路”？台积电不买新EUV光刻机，太贵了

自从芯片产业的制造，采用光刻方式之后，光刻机就成为了不可或缺的设备之一。而当光刻进入浸润式时代后，ASML抱着台积电大腿，豪赌浸润式，彻底崛起，将尼康、佳能等远远的甩在了身后，真正一家独大。如今在浸润式光刻机领域，ASML份额超过90%，而在EUV光刻机领域，ASML的份额达到100%

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-05-27

台积电买的ASML EUV光刻机被曝暗藏后门：可以远程自毁！

据外媒报道，台积电从荷兰ASML(阿斯麦)购买的EUV极紫外光刻机，暗藏了一个致命的后门，可以在必要的时候执行远程自毁。至于这个自毁开关为何存在，意在何时使用，无需赘言。但目前尚不清楚它到底是否真的存在，以及具体是如何工作的，ASML、台积电也均未公开回应

台积电 ASML 2024-05-23

光刻机巨头阿斯麦业绩爆雷股价大跌：网友支招7nm以下EUV给中国厂商供货

快科技4月18日消息，光刻机巨头阿斯麦（ASML）业绩爆雷，这也导致公司股价大幅下挫。阿斯麦发布的2024年第一季度财报。财报数据显示，公司今年一季度营收端大幅下滑，实现营收52.9亿欧元，同比下降21.6%，不及市场预期：公司一季度净利润为12.24亿欧元，同比下滑37.4%

光刻机阿斯麦 2024-04-18

美欧日韩芯片联盟，出现裂缝，EUV光刻机时代，要过去了？

众所周知，全球最牛的光刻机厂商，是荷兰的ASML，它垄断了全球90%的光刻机市场，EUV光刻机市场更是高达100%，只有它能够制造。但ASML表面上看是荷兰的，实际上是被美国控制的，ASML是美国意志的产物，没有美国在背后推动，支持，ASML不可能有如此地位

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-03-10

新路线出现：EUV光刻机后，是BEUV技术，我们赶紧冲！

众所周知，过去几十年以来，芯片制造工艺，主要是光刻工艺。利用光线，将芯片电路图，投影到硅晶圆片上，中间最核心的设备，就是光刻机。同时光刻技术，就直接定义了芯片工艺，直接决定芯片的制程水平和性能水平

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-03-07

今年5nm，2026年2nm，EUV光刻机搅局者，终于要量产了

目前在芯片制造领域，光刻工艺是几乎所有晶圆厂，都采用的工艺，特别是在相对先进一点的制程中，全部是光刻工艺。而光刻工艺下，光刻机、刻蚀机等必不可少，其中光刻机更是重中之重，因为其门槛高，研发难度，供应链复杂，是所有芯片制造设备中，价格最高的设备

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-03-04

美、日、韩、台、荷的芯片纽带断了？EUV光刻机，进入死胡同？

不管大家承认不承认，事实上还真是如此，美国、日本、中国台湾、荷兰、韩国这5个地区，如果联手起来，就真正垄断了全球的芯片产业。美国掌控EDA、IP、半导体设备这些上游产业。日本垄断的是半导体设备、半导体材料

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-02-28

ASML的“末日狂欢”：EUV光刻机，难有下一代，未来没了

2023年，是ASML狂欢的一年，这一年卖出了276亿欧元的光刻机，同比增长30%，而净利润为78亿欧元，同比增长43%，毛利率高达51.3%。 2023年这一年，ASML卖出了53台EUV光刻机，

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-02-21

未来芯片巅峰！ASML露面的High NA EUV光刻机，为2纳米技术揭开神秘面纱

（本篇文篇章共715字，阅读时间约1分钟）近日荷兰光刻机巨头ASML首次向媒体展示了最新一代的High NA EUV光刻机，这一机器被视为全球最先进的光刻技术，能够制造2纳米以下的芯片

ASML EUV光刻机 2024-02-18

台积电计划在2030年采用High-NA EUV光刻机完成1nm制程芯片

（本篇文篇章共935字，阅读时间约1分钟）近期，台积电发布了其在1nm制程芯片领域的产品规划，计划在2030年前完成1nm级A10工艺的开发。这一计划是在ASML交付给英特尔业

台积电 EUV光刻机 2024-02-18

ASML最新EUV光刻机：27亿元，150吨重，250人要安装180天

众所周知，目前全球仅ASML一家能够生产EUV光刻机。目前ASML对外出货的光刻机，其实均是数值孔径NA=0.33的光刻机，这种称之为低数值孔径的光刻机，一般用于3nm-7nm芯片的光刻。而当

芯片台积电华为 ASML 光刻机 intel 2024-02-18

ASML浸润式DUV光刻，EUV光刻机，正式断供！

众所周知，目前的芯片制造，基本上是基于光刻工艺，所以必须用到光刻机。而光刻机又芯片工艺制程对应，如下力所示，比如G线、i线对应的是350nm及以上的芯片工艺，而KrF对应的是350-130nm

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-01-02

一台近30亿元！ASML明年生产10台全新EUV光刻机：Intel独吞6台

集邦咨询的报告显示，ASML阿斯麦将在2024年生产最多10台新一代高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机，其中Intel就定了多达6台。同时，三星星也在积极角逐新光刻机，台积电感觉压力巨大。NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率，以及最高能达到的工艺节点

ASML EUV光刻机 2023-12-22

怎么办？EUV光刻机前进的3个方向，已全部是绝路

众所周知，随着芯片工艺的不断前进，光刻机也是不断的改进，越来越先进，越来越精密。比如普通DUV光刻机，只能生产最低65nm的芯片，而浸润式DUV光刻机，则能生产最低7nm芯片，EUV光刻机则能生产5nm及以下的芯片

芯片光刻机 ASML EUV 2023-12-21

CEO退休，ASML的EUV光刻机，已经走向绝路了

众所周知，目前的芯片制造工艺中，光刻是必不可少的步骤，所以光刻机也是至关重要的一种设备。光刻机的类型与工艺制程，光源波长，是一一对应，比如干式DUV光刻机，采用193nm波长深紫外线光源，制造13

光刻机 ASML 芯片台积电华为中芯国际 2023-12-20

风向变了，美国100亿美元建H-N EUV研发中心，再造台积电？

众所周知，目前全球最牛的芯片制造企业，必然是台积电。从技术上来看，台积电是唯二掌握3nm工艺的晶圆厂，另外一家是三星。但三星目前还没有真正推出3nm的芯片，所以台积电才是遥遥领先。从市场来看，台积电一家占了全球55%+的代工份额，7nm以下的芯片，台积电占了90%的份额

台积电芯片光刻机华为中芯国际 2023-12-15

价格只有EUV的10%，佳能销售5nm光刻机，但不卖给中国

众所周知，前段时间佳能正式在官网官宣，其旗下的NIL纳米压印光刻机生产设备 FPA-1200NZ2C出货了，而这个光刻机，与EUV光刻机不同，是绕开EUV的另外一种纳米压印技术，但是能够生产5nm芯片

ASML 佳能光刻机 NIL EUV 2023-11-07

2纳米无需EUV光刻机，ASML或面临灭顶之灾，难怪加紧对中国出货了

ASML曾表示全球5纳米以下的工艺必需它的EUV光刻机，谁也无法替代它的地位，然而如今却有厂商表示可以绕开EUV光刻机生产先进工艺，吓坏了ASML。在光刻机行业，除了ASML之

国产芯片光刻机 2023-11-01

佳能5nm NIL光刻机告诉我们，绕过EUV，或许才是出路

近日，佳能出货5nm的芯片光刻机，震惊了整个网络。佳能官网发公告称，旗下最先进的新一代纳米压印（NIL）设备FPA-1200NZ2C正式出货。这种光刻机，可实现最小线宽14nm的图案化，相当于目前5nm逻辑芯片

ASML 光刻机 EUV 激光器蔡司芯片 2023-10-17

ASML真的慌！佳能绕开EUV，5nmNIL光刻机出货，可惜不卖给中国

众所周知，在芯片光刻机领域，有4大厂商，分别是ASML、佳能、尼康、上海微电子。其中ASML占了85%+的份额，佳能、尼康合计占了15%左右的份额，至于上海微电子，其实就是打酱油而已，份额接近于0%

ASML 佳能光刻机 NIL EUV 2023-10-16

EUV光刻的三大核心技术，日本掌握2项，荷兰掌握1项

众所周知，目前芯片技术在2020年进入5nm后，今年已经正式全面从5nm进入了3nm，三星、台积电这两大巨头，已经实现了3nm芯片的量产，而苹果更是依托台积电，推出了3nm手机芯片A17 Pro。

芯片 ASML 光刻机中芯国际 2023-09-29

国产EUV光刻机要突破，三大核心中，仅一项稍有把握

最近几天，国产光刻机又成为了市场热点，有很多媒体称，中国颠覆式创新下的EUV光刻机有了大突破，而团队是清华大学，具体项目是SSMB-EUV方案。说的是有鼻子有眼，甚至还有图有真相。但事实上，大家仔

ASML 光刻机 EUV 激光器蔡司芯片 2023-09-18

华为麒麟9000S芯片之后，国产EUV光刻机，火烧眉毛了

最近最火的芯片是什么？在国内我认为绝对是华为Mate60上面的那一颗麒麟9000S。虽然这颗芯片工艺未知，代工厂未知，5G未知，生产时间未知，但一直是大家关注的重点，连海外媒体都去拆解，反封装

芯片华为台积电中芯国际光刻机 2023-09-15

价值30亿元！首台高NA EUV光刻机！

对于EUV光刻技术来说，越到后面的推进也越来越具有挑战性，即使对于龙头企业ASML来说也是如此。近日，光刻巨头ASML的CEO Peter Wennink表示，尽管在推进过程中遇到了一些困难，但他们仍

光刻机 ASML EUV 2023-09-08

没有EUV光刻机，能国产7nm芯片么？

近日，华为Mate 60 Pro手机搭载的麒麟9000S处理器，将公众视线再次聚焦到了国产芯片制造之上。虽然目前代工厂未知，工艺未知，甚至GPU、CPU核等都有很多未知，但不妨碍大家的兴奋和猜测，

芯片 EUV 华为麒麟9000S 高通台积电 2023-09-06

除了EUV光刻机，5nm芯片还需要一种关键设备，也被美国禁售

众所周知，目前的硅基芯片，其制造过程都离不开光刻工艺，所以光刻机必不可少。干式光刻机ArF Dry，最多可以实现65nm制程。浸润式光刻机ArFi可以实现的最小制程是7nm，而到了7nm以下，就需要EUV光刻机了

芯片光刻机 ASML 日本中芯国际华为 2023-08-14

国产芯片制造工艺，或要绕过EUV光刻机了，已有重大进展

众所周知，目前硅基芯片的制造，离不开光刻工艺。而光刻工艺，则离不开光刻机，而全球目前仅4家半导体芯片制造的光刻机厂商，分别是ASML、尼康、佳能、上海微电子。其中ASML最牛，拥有EUV光刻机、浸润式光刻机、干式光刻机等各种高、中低端光刻机，份额高达80%+

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2023-08-11

ASML有点慌：不用EUV光刻机，也能生产5nm芯片

在当前的硅基芯片制造过程中，光刻法是唯一的量产方法。什么叫光刻法，既然就是利用光线，照射刻录好的光掩膜板，把上面的电路图，投影到硅晶圆上，类似于投影机的原理一样。而这个过程中，需要一种最重要的工具，那就是光刻机，而光刻机的分辨率，就决定了芯片工艺

NIL 光刻机 ASML 华为芯片 2023-08-01

ASML：EUV光刻机是奇迹，是人类制造的最复杂机器

众所周知，目前的芯片流程中，光刻机是必不可少的设备之一，也是价值占比，工序占比最高的设备。而目前能够制造前道光刻机（与后道光刻机对应，前道光刻机用于制造芯片，后道光刻机用于封测）的厂商，全球也没几家，也就只有ASML、日本的尼康、佳能，中国的上海微电子这么四家

ASML 光刻机 EUV 激光器蔡司芯片 2023-07-14