EUV
极紫外光刻(Extreme Ultra-violet),常称作EUV光刻,它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术。具体为采用波长为13.4nm 的紫外线。极紫外线就是指需要通过通电激发紫外线管的K极然后放射出紫外线。
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可量产0.2nm工艺!ASML公布超级EUV光刻机:但死胡同也不远了
ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机,同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机,预计可将半导体工艺推进到0.2nm左右,也就是2埃米。 ASML
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阿斯麦和IMEC联合光刻实验室启用:最早2025年大量生产High NA EUV
快科技6月4日消息,据媒体报道,比利时微电子研究中心(IMEC)与阿斯麦(ASML)宣布在荷兰费尔德霍芬(Veldhoven)开设联合High-NA EUV光刻实验室(High NA EUV Lithography Lab)
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台积电买的ASML EUV光刻机被曝暗藏后门:可以远程自毁!
据外媒报道,台积电从荷兰ASML(阿斯麦)购买的EUV极紫外光刻机,暗藏了一个致命的后门,可以在必要的时候执行远程自毁。 至于这个自毁开关为何存在,意在何时使用,无需赘言。 但目前尚不清楚它到底是否真的存在,以及具体是如何工作的,ASML、台积电也均未公开回应
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光刻机巨头阿斯麦业绩爆雷 股价大跌:网友支招7nm以下EUV给中国厂商供货
快科技4月18日消息,光刻机巨头阿斯麦(ASML)业绩爆雷,这也导致公司股价大幅下挫。 阿斯麦发布的2024年第一季度财报。财报数据显示,公司今年一季度营收端大幅下滑,实现营收52.9亿欧元,同比下降21.6%,不及市场预期:公司一季度净利润为12.24亿欧元,同比下滑37.4%
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未来芯片巅峰!ASML露面的High NA EUV光刻机,为2纳米技术揭开神秘面纱
(本篇文篇章共715字,阅读时间约1分钟) 近日荷兰光刻机巨头ASML首次向媒体展示了最新一代的High NA EUV光刻机,这一机器被视为全球最先进的光刻技术,能够制造2纳米以下的芯片
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台积电计划在2030年采用High-NA EUV光刻机完成1nm制程芯片
(本篇文篇章共935字,阅读时间约1分钟) 近期,台积电发布了其在1nm制程芯片领域的产品规划,计划在2030年前完成1nm级A10工艺的开发。这一计划是在ASML交付给英特尔业
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一台近30亿元!ASML明年生产10台全新EUV光刻机:Intel独吞6台
集邦咨询的报告显示,ASML阿斯麦将在2024年生产最多10台新一代高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机,其中Intel就定了多达6台。同时,三星星也在积极角逐新光刻机,台积电感觉压力巨大。NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标,直接决定了光刻的实际分辨率,以及最高能达到的工艺节点
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怎么办?EUV光刻机前进的3个方向,已全部是绝路
众所周知,随着芯片工艺的不断前进,光刻机也是不断的改进,越来越先进,越来越精密。 比如普通DUV光刻机,只能生产最低65nm的芯片,而浸润式DUV光刻机,则能生产最低7nm芯片,EUV光刻机则能生产5nm及以下的芯片
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2纳米无需EUV光刻机,ASML或面临灭顶之灾,难怪加紧对中国出货了
ASML曾表示全球5纳米以下的工艺必需它的EUV光刻机,谁也无法替代它的地位,然而如今却有厂商表示可以绕开EUV光刻机生产先进工艺,吓坏了ASML。 在光刻机行业,除了ASML之
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EUV光刻的三大核心技术,日本掌握2项,荷兰掌握1项
众所周知,目前芯片技术在2020年进入5nm后,今年已经正式全面从5nm进入了3nm,三星、台积电这两大巨头,已经实现了3nm芯片的量产,而苹果更是依托台积电,推出了3nm手机芯片A17 Pro。
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价值30亿元!首台高NA EUV光刻机!
对于EUV光刻技术来说,越到后面的推进也越来越具有挑战性,即使对于龙头企业ASML来说也是如此。近日,光刻巨头ASML的CEO Peter Wennink表示,尽管在推进过程中遇到了一些困难,但他们仍
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EUV光刻机有多难?我们研发了20多年,才刚摸到门槛
众所周知,目前在所有的国产半导体设备之中,光刻机应该是最落后的一环了。 从之前机构出具的数据来看,少部分的国产半导体设备已经支撑到了5nm,大部分的设备支撑到28nm左右,只有国产光刻机还处于90nm
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售价超10亿 ASML新款EUV光刻机年底出货:2nm离不了
台积电今年要大规模量产3nm工艺了,三星也是,两家还要在2025年左右量产2nm工艺,对EUV光刻工艺的需求更高,而ASML今年底也会出货新款EUV光刻机NXE:3800E,2nm工艺就靠它了。 A
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与EUV相比,这一光刻技术更具发展潜力
对于半导体行业而言,光刻技术和设备发挥着基础性作用,是必不可少的。 ?所谓光刻,就是将设计好的图形从掩模版转印到晶圆表面的光刻胶上所使用的技术。光刻技术最先应用于印刷工业,之后长期用于制造印刷电路板(PCB),1950年代,随着半导体技术的兴起,光刻技术开始用于制造晶体管和集成电路(IC)
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EUV光刻机中,ASML技术占20%,80%是美、德、日、英提供
众所周知,在目前的技术下,制造7nm以下的芯片,必须使用EUV光刻机。 而全球仅ASML一家能够制造出EUV光刻机,而2022年,全球一共出货40台EUV光刻机,而截止至2022年底,ASML一共出货182台