一线生机!ASML高端DUV光刻机不能卖给中国,仅一款能卖
众所周知,美国为了锁死中国的逻辑芯片制程在14nm,联手尼康、佳能,ASML三家光刻机巨头,一起对先进光刻机进行禁运。
而能够生产14nm及以下芯片的光刻机有两种,一种是EUV光刻机,一种是高端的DUV光刻机,也就是浸润式光刻机(ArFi光刻机)。
由于DUV光刻机中的浸润式光刻机分很多种型号,有些只能生产14nm以上工艺,有些能够生产最高7nm工艺。所以浸润式光刻机,究竟能不能卖给中国,哪些能够卖,哪些不能卖,就成为了大家最关注的问题。
特别是中芯京城项目,因瓶颈机台未交付,而造成投产延期更是牵动大家的心,因为很明显这个瓶颈机台,很可能就是光刻机。
而近日,荷兰光刻机大厂ASML通过官网发布了《关于额外出口管制的声明》,其中对光刻机出口进行了补充说明,算是尘埃落定了。
ASML表示,出口管制并不涉及所有浸润式光刻机,只涉及到“最先进”的光刻机。什么是最先进的浸润式光刻机?ASML认为是TWINSCAN NXT:2000i及之后的浸没式光刻系统。
滋润式光刻机到底有多少种?ASML目前在售的主要有三种,按照其先进程度,分别为TWINSCAN NXT:1980Di,TWINSCAN NXT:2000i ,TWINSCAN NXT:2050i,越后面的越先进。
那么就很明显了,这三种高端的DUV光刻机中,只能出口一种浸润式光刻机,那就是TWINSCAN NXT:1980Di,也就是相对最落后的那一种,其它两种,由于太先进了,所以是不能出口到中国来的,至于比浸润式光刻机更先进的EUV就更加不要说了,不可能出口了。
那么问题来了, 这一台TWINSCAN NXT:1980Di光刻机,能生产多少纳米的芯片?
如上图所示,这是ASML官网上关于这一台TWINSCAN NXT:1980Di的介绍,其中在分辨率方面,写到是大于等于38nm。
那么意思就是只能生产38nm工艺的芯片么?其实并不是的,是指一次曝光的分辨率,事实上光刻机是可以进行多次曝光的。理论上依然可以达到7nm,只是步骤更为复杂,成本更高,良率可能也会有损失,晶圆厂用这一台光刻机,大多是生产14nm及以上工艺的芯片,很少去生产14nm以下的工艺,因为良率低,成本高,没什么竞争力。
但可以肯定的是,用这一台TWINSCAN NXT:1980Di光刻机,生产28nm、14nm是不成问题的,国内成熟工艺的扩产,接下来不会有什么影响,只是在先进工艺方面,还是有困难,这也算是坏消息中的一个好消息?
原文标题 : 一线生机!ASML高端DUV光刻机不能卖给中国,仅一款能卖
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