走近三星S7国际版处理器Exynos 8890:多核性能秒A9 里程碑式作品
而内存方面依旧为双通道的LPDDR4,值得一提的是Exynos 8890首次集成了基带,下行支持Cat 12,理论速度达到600Mbps,而上行也支持到Cat 13,理论速度达到150Mbps。是三星自主处理器的又一里程碑。
结果来自Geekbench数据库与GFXbench(全为Offscreen)数据库。
由于搭载Exynos 8890的机型还没开卖,所以仅能通过理论跑分成绩来说明其性能表现。单从数据上看来,Exynos 8890的单核性能已经比高通上代旗舰骁龙810以及三星上代旗舰Exynos 7420强不少,Exynos 8890的单核性能基本上是骁龙810、Exynos 7420的两倍,而GPU方面,Exynos 8890同样领先于另外两者,无论CPU性能还是GPU性能都有较大幅度的提升。
而随着Exynos 8890的机型逐渐出货,其驱动以及软件/游戏的优化也会陆续跟上,相信具体性能会继续往上攀升。
14nm LPP工艺的Exynos 8890发热更少
可能很多朋友会对这款处理器产生疑问,这么强大的处理器,发热怎么样。鉴于笔者手上也没有搭载这款处理器的相应机型,所以具体发热状况暂且不妄下定论。但Exynos 8890采用14nm FinFET LPP工艺制造,相信发热“理论”上会得到控制,究竟FinFET是什么?它又有什么作用呢?笔者来简单阐述一下。
FinFET显微图
其实早在10多年前,就有人提出FinFET这个结构,FinFET主要重新设计了晶体管里面的S/D两级以及最为关键的Gate结构(什么是S/D/Gate今天不说,不然文章起码要多2000字),让Gate对通/断的控制力更强,也就是在更先进的制程节点上,减少S/D两级之间的漏电流,而漏电流会直接影响处理器的功耗。而骁龙810的20nm HKMG工艺,就是Gate控制力低下(对于20nm节点),导致漏电问题严重,所以发热以及功耗得不到良好的控制。
FinFET工艺示意图
而台积电/三星在16nm/14nm节点上都使用了FinFET技术,增强了Gate对S/D的控制力,减少漏电流。此外,随着三星14nm FinFET LPE过渡到LPP工艺的成熟,良品率会逐渐上升,成本慢慢下降,也利于三星在晶圆的制造过程中使用更好的工艺去控制功耗。
Exynos 8890的发热情况本站将会进行相应的测试。
总结:三星自主处理器的又一里程碑
搭载Exynos 8890的Galaxy S7已经发布。另外,在15年12月的骁龙820亚洲首秀上,高通表示已经有超过70款终端采用这颗处理器,相信到现在已经突破了这一数字。
三星S7
Exynos 8890作为三星首款集成基带模块的处理器,其身上有着相当多创新之处,例如自主设计的Mongoose核心以及自主架构+arm 公版架构的双簇式设计,能很好地兼顾高性能与低功耗。整体来说,Exynos 8890的性能表现在2016年夺下安卓手机平台处理器性能宝座并不是问题。
然而,Exynos 8890多核性能秒苹果A9不是问题,而工艺上面也采用比A9 LPE更强的LPP。
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