继中芯国际宣布与ASML签订12亿美元光刻机订单后，又一中国企业宣布了关于购买光刻机产品的最新进展。

3月8日，上海新阳半导体材料股份有限公司（以下简称“上海新阳”）发布公告称，上海新阳自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，安排购买了ASML－1400光刻机等核心设备，该光刻机设备于今日已进入合作方北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司场地，后续将进行安装调试等相关工作。

公告内容显示，上海新阳自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，安排购买了ASML－1400光刻机等核心设备，并于2020年12月14日在《关于公司申请向特定对象发行股票的审核问询函的回复》中披露，该光刻机将于2020年底前运抵国内。后由于公司与光刻机供应商、北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司（以下简称“合作方”）沟通协调设备运输与安装等细节，致使设备没能在规定时间内运达，但与合作方就具体合作细节签署了《合作框架协议》，并发布了《关于ASML－1400光刻机进展暨签订＜合作框架协议＞的公告》，预计该光刻机将于2021年3月底前进入合作方现场，详见公司于2021年1月5日发布的相关公告。

现经各方积极协商、运作，该光刻机设备于今日已进入合作方北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司场地，后续将进行安装调试等相关工作。

（截图源自上海新阳公司公告）

资料显示，上海新阳创立于1999年7月，2011年6月在深圳证券交易所创业板上市，公司专注于半导体行业所需功能性化学材料产品及应用技术的研发创新、生产制造和销售服务，经过持续不断地研发创新，形成了拥有完整自主可控知识产权的电子电镀和电子清洗两大核心技术，已申请授权国家专利210项，其中国内发明专利102项，国际发明专利8项，用于晶圆电镀与晶圆清洗的第二代核心技术已达到世界水平。

根据上海新阳最新发布的业绩预告显示，2020年1月1日至2020年12月31日公司营业收入和净利润持续稳步增长，其中本报告期归属于上市公司股东净利润约为26000万元-29000万元，相比于上年同期的21031.90万元增长23.62%-37.89%。主要原因是公司晶圆制造和先进封装用电镀液及清洗液系列产品销售同比实现了大幅度增长。

本次购入光刻机主要用于哪方面？

根据上海新阳发布公告显示，公司采购的ASML干法光刻机设备顺利交付，对加快193nmArF干法光刻胶产品开发进度有积极影响，有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力，加快落实公司发展战略，提高公司抗风险能力和可持续发展能力。

据悉，光刻胶乃是影响集成电路性能、成品率及可靠性的关键因素。在整个芯片制造工艺中，光刻工艺成本就占据了35%，耗费时长约占整个芯片工艺的40％－50％，其中光刻胶材料又占了芯片制造材料总成本的将近4%，市场规模巨大。具体到不同技术节点方面，目前半导体光刻胶细分市场以ArF／ArF浸没式为主，占市场总量的46％。其中，193nm（ArF）光刻胶在高阶半导体制造（≤10nm logic）支撑光刻胶的出货量中处于持续快速增长状态。

按照用途来划分，193nm（ArF）光刻胶按用途可以分为4大类：

（1）用于离子注入的光刻胶，其膜厚约300－1500nm，关键尺寸180－500nm；

（2）用于连接线路的通孔型光刻胶，其膜厚约为200－300nm，关键尺寸70－160nm；

（3）用于栅型光刻胶，其膜厚约为150－300nm，关键尺寸50－120nm；

（4）用于布线的光刻胶，其膜厚约为150－300nm，关键尺寸50－110nm。