顶着世界工厂的名号，中国早已是当之无愧的制造业大国。但大而不强、全而不优的局面始终困扰着国人。芯片生产受制于人，核心专利受制于人，极大地制约了中国前进的步伐。

芯片，号称工业王冠上的宝石，其中包含IP设计、生产制造、封装测试等多个步骤，每一个步骤都需要无数熟练工程师与先进的工艺水平。在追赶世界潮流过程中，华为率先在手机芯片设计中突破，中芯国际在生产制造中突破，长电科技也在封装测试领域赶上世界先进水平。除了难以突破的 EDA工具，国内企业基本覆盖了芯片全产业链。

然而，在不断突破过程中，国内企业也受到了来自太平洋对岸的打击。华为被美国列入实体清，中芯国际被列入实体清单，中国企业在芯片行业追赶之路似乎就此停止。好在最近峰回路转，最新消息传出，美国部分解禁，中芯国际与光刻机厂商阿斯麦顺利签下12亿美元大单。

解禁在意料之中

去年底，美国商务部将中芯国际列入实体名单，以限制其获取美国关键技术的能力。按照规定，出口商必须向美国商务部申请许可证才能向中芯国际销售产品。

某种程度上，实体清单并非一道密不透风的墙，它更像一道关卡，审核来往货物，对没有威胁的产品予以放行。中芯国际这次光刻机订单，就属于没有威胁那一批产品。

众所周知，中芯国际主营业务为晶圆代工，说的直白点就是为芯片设计厂家提供生产制造服务，在制造过程中光刻机最为关键。一座工厂，一条生产线，没有光刻机就等同废铁。然而，光刻机也有优劣之分，目前主流光刻机分为DUV 光刻机与EUV 极紫外光刻机。

通常来说，DUV 光刻机技术含量较低，多用于成熟工艺生产，也就是14nm、28nm及以下的制程工艺。EUV 光刻机设计先进，可用于7nm、5nm、3nm等先进制程工艺。中芯国际此次顺利与阿斯麦签下合同，小黑并不意外，因为早在1月初，中芯国际获得美国成熟制程许可证，包括EDA、设备和材料等。

阿斯麦总裁兼 CEO Peter Wennink 也曾解释过：“根据当前法规，ASML（阿斯麦）无需获得美国出口许可证便可以继续从荷兰向中国客户出货 DUV 光刻系统。对于直接从美国发货系统或零件到受法规影响的客户，ASML需获得许可证。”

赶超无望，EUV 光刻机成为拦路虎

中芯国际新订单签订后，在国内掀起不小的风浪，很多自媒体人纷纷发文，声称中芯国际狠狠地打了美国人的脸。错综复杂的消息引得阿斯麦赶紧站出来澄清：这笔批量采购协议（VPA）是2018年签订的，目前仅是延长到2021年12月31日。并且指出了两个重点：只与 DUV 光刻技术有关；VPA对于ASML而言不是重要事件。

新订单没有EUV 光刻机，对于中芯国际发展先进制程，确实是个不小的打击。DUV 光刻机与EUV 光刻机发光原理不同，DUV为准分子激光，光源的波长能达到193nm，一般只能做到25nm工艺，英特尔凭借双工作台模式做到了10nm（相当于中芯国际7nm），却无法达到10nm以上。EUV 激光激发等离子来发射EUV光子，光源的波长则为13．5纳米，可以满足先进制程需求，7nm、5nm、3nm，甚至2nm 都没有问题。

EUV 光刻机中芯国际肯定想要，早在两年多以前就已经向阿斯麦提出采购申请，然而直到今天阿斯麦仍然没有同意出售。与平常设备不同，光刻机属于极度稀缺产品，台积电、英特尔、三星都是通过入股阿斯麦，才获得优先采购权。别说目前中芯国际被列入实体清单，即使没有禁令，中芯国际一时半会也以获取 EUV 光刻机。

在晶圆代工领域，光刻机扼住了代工厂的咽喉，没有EUV 光刻机，中芯国际N＋1、N＋2、7nm 等正在研发的先进制程都难以实现，赶超台积电、三星、英特尔等企业已经成为奢望。

自保有余，成熟工艺利润不低

中芯国际制程工艺止步不前，对于整个中国芯片产业链来说，确实令人有些失望。不过，对于中芯国际本身来说，做好成熟工艺也不差。如今，全世界陷入芯片荒，上至5nm 芯片，下至0．35微米芯片，全部陷入供货紧张局面。在此背景下，中芯国际加大DUV 光刻机采购量，有利于进一步扩大市场。

与行业龙头台积电不同，中芯国际14nm、28nm制程工艺竞争力不强，更多时候还是靠成熟工艺贡献营收的。就拿去年三季度来说，中芯国际第一大营收贡献工艺是150／180nm，占比31％，第二大营收贡献是55／65nm，贡献了26％。第三大营收贡献是40／45nm，占比17％。因此，掌握成熟工艺，逐渐提高14nm、28nm 制程工艺良品率，对于中芯国际同样意义重大。

在世界范围内，先进制程竞争异常猛烈，投资大、收入不稳定，一旦失败就意味着巨额亏损。台联电、格罗方德等老牌代工企业纷纷在14nm止步，专注于成熟工艺生产，并不参与先进制程竞争。在成熟工艺领域，还有许多家电芯片、物联网芯片、汽车芯片、基站芯片，这些需求都将长期存在。成熟工艺芯片对于我国同样意义重大，中国每年花费3000亿美元进口半导体产品，其中主要都是14nm及以上的成熟工艺芯片。

对于中芯国际先进制程来说，DUV 光刻机解禁意义不大，不过是将往年的订单延续下去。但是对于企业发展领域，不断补充的DUV 光刻机有助于中芯国际成熟工艺升级，将营收主力从150／180nm工艺转为14／28nm。遥望星空代表了理想，脚踏实地意味着实干，在星空遥不可及的情形下，中芯国际最大的目标就是保住自己、持续进步．．．．．．