芯片产业“发动机”将熄火，ASML->台积电->苹果，供应链危
是什么推动全球芯片产业进步的？当然是科技，是市场需求，推动着苹果、高通们研发一代又一代的先进芯片，然后台积电又制造一代又一代的芯片。
从28nm到14nm，再到10nm、5nm、3nm……似乎无止境一样。
但是，这些芯片工艺不断推进，加速迭代，从之前的几年一代，变成一年一代，又变成几年一代，什么是其最重要的“发动机”呢？
其实是光刻机，特别是进入7nm之后，芯片工艺的推进，全靠EUV光刻机，因为全球只有ASML一家能够研制出EUV光刻机。
如果ASML没有新款光刻机推出，旧款的EUV光刻机分辨率支撑达到极限之后，那么芯片工艺就无法前进了，只能原地踏步，因为分辨率无法前进了。
这些年，ASML推出一代又一代的EUV光刻机，从最原始的EUV，再到现在的标准EUV，再到下一代的High NA EUV，再到理论中的Hyper NA EUV……
一代比一代强，一代比一代分辨率高，这一代又一代推进整个芯片产业进步。
也因为光刻机，所以整个芯片产业，其实构成了一条垄断的产业链，那就是ASML生产EUV光刻机，台积电从ASML采购EUV光刻机，制造了全球90%的先进芯片。
而苹果、英伟达、高通、英伟达等，研发出先进芯片后，又交给台积电制造。
这条产业链，最核心的“发动机”还是ASML的EUV光刻机，可以说，只要这个光刻机出现问题，一定会极大的冲击整个芯片产业的发展，因为没有备胎。
但如今，这个产业链的核心，可能就要熄火了，因为EUV光刻机，发展到High NA EUV之后，也许没有了下一代，ASML自己都不确定了。
标准EUV光刻机，数值孔径NA=0.33，可打印13.5nm的线宽，High NA EUV光刻机，NA=0.55，可打印8nm线宽，用于2nm以下芯片。
ASML认为，理论上还有Hyper NA EUV，其NA=0.75，可以打印5nm以下线宽，用于制造1nm及以下芯片。
但是ASML也不确定这种 Hyper NA EUV 能不能制造出来，甚至ASML认为，就算制造出来了，其成本高到无法量产，晶圆厂也不会花大价钱来买它。
所以Hyper NA EUV可能只是传说，也许永远也没有了，那么High NA EUV就是最终一代，也是芯片产业最后的“发动机”了。
那么很明显，以后这一条ASML->台积电->苹果/高通/英伟达等的芯片产业链，可能也会陷入危机之中了，因为没有光刻机推动，技术基本上就不会再进步了。
那么不管是ASML，还是台积电，亦或苹果、高通、英伟达等的垄断也会被打破，全球芯片产业都可能迎来变局或洗牌。
当然，这对我们而言是好事，因为目前先进工芯被美国垄断和掌控，这个链条里，中国大陆是被排除在外的，一旦洗牌，我们就有可能坐上牌桌了。
原文标题 : 芯片产业“发动机”将熄火，ASML->台积电->苹果，供应链危
分享
图片新闻
技术文库
最新活动更多
-
即日-12.26立即报名>>> 【在线会议】村田用于AR/VR设计开发解决方案
-
1月8日火热报名中>> Allegro助力汽车电气化和底盘解决方案优化在线研讨会
-
1月9日立即预约>>> 【直播】ADI电能计量方案：新一代直流表、EV充电器和S级电能表
-
即日-1.14火热报名中>> OFweek2025中国智造CIO在线峰会
-
即日-1.20限时下载>>> 爱德克（IDEC）设备及工业现场安全解决方案
-
即日-1.24立即参与>>> 【限时免费】安森美：Treo 平台带来出色的精密模拟
推荐专题
发表评论
请输入评论内容...
请输入评论/评论长度6~500个字
暂无评论
暂无评论