Leti
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2019 IEDM：IBM和Leti
BM和Leti在IEDM上发表的关于Nanosheet的工作进展：改进蚀刻工艺，基于偶极子的Vt控制，在叠层下引入介电层降低寄生电容以及对纳米片叠层中应力的理解，以使Nanosheet架构朝着量产迈进。应力会影响载流子迁移率，进而影响器件性能，因此也是未来工艺优化的关键。
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