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2019 IEDM:IBM和Leti

2020-08-24 10:53
半导体百科
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IBM和Leti在今年IEDM上分别发表了若干篇论文,其中包括一篇合作的Nanosheet论文。我有机会采访到与IBM高级逻辑与内存技术总监卜惠明和IBM高级工程师Veeraraghavan Basker,之后又分别采访了Leti advanced CMOS实验室负责人Francois Andrieu和工艺整合工程师Shay Reboh。

IBM

IBM在奥尔巴尼(CNSE)中心拥有一条研发产线,在那里他们开发了5nm技术,现已转让给三星,并且正在从事3 / 2nm技术节点的研究。尽管器件架构发生了变化,因此需要使用一些独特的设备,但与5nm相比,设备的复用率很高。当他们开始研发新器件的时候,他们在微缩之前会使用测试结构来评估设备和材料。如果使用上一个节点的结构来开发材料和设备,那么工艺微缩将会成为问题。

IBM的第一篇论文是“Multiple-Vt Solutions in Nanosheet Technology forHigh Performance and Low Power Applications”。Nanosheet架构的一个主要挑战是如何实现多个阈值电压(Vt)。FinFET架构下的方法是使用各种功函数金属的堆叠,但是在nanosheet架构中,纳米片与纳米片之间的间距必须尽可能小,以最小化电容并最大化性能。

IBM使用偶极子调Vt已有很长的历史。多年以前,IBM首次推出的HKMG工艺就是,采用了偶极子的前栅极(gate-first)方案,当时业界其他公司均采用了后栅极(gate-last)方案。虽然,后栅极方案已成为HKMG的主流方案,但是IBM早期在偶极子领域的经验在nanosheet架构下仍然是有用的经验。偶极子代替一堆功函数金属可在纳米片中实现多个Vt,并克服了nanosheet架构的主要挑战。

水平堆叠纳米片的另一挑战是硅和锗硅之间的超高选择比蚀刻。在文章“A Novel Dry Selective Etch of SiGe for the Enablement of High Performance Logic Stacked Gate-All-Around NanoSheet Devices”中,IBM介绍了他们与Tokyo Electron的合作成果。使用气相各向同性蚀刻(作者注:我相信这设备是TEL的Certas Wing),他们实现了SiGe(25%)与Si的150:1 蚀刻选择比。

第三篇文章的题目是“ Full Bottom Dielectric Isolation to Enable Stacked Nanosheet Transistor for Low Power and High Performance Applications ”。IBM公开了一种可以在nanosheet下方创建一层电介质层,从而降低寄生电容并提高性能的方法(如图1,图2)。该电介质是基于氮化硅的,但他们没有透露其工艺方案。纳米片堆叠是直接在硅基底上外延生长的,因此,不知硅基底是怎么被蚀刻掉并重新填充氮化硅的。

图1,两种结构示意图,由小编摘自对应论文。

图2,不同步骤下的TEM切片,由小编摘自对应论文。

他们研究表明与7nm FinFET相比,Nanosheet在恒定功率下性能提高了25%以上,而在相同性能下功耗降低了50%,而且6/5/4nm 节点的FinFET的性能均不如Nanosheet。Nanosheet还具有光刻定义宽度的能力,从而可以在同一工艺中同时形成具有最佳电性效果的纳米片,和更高驱动电流的纳米片。IBM在2012年左右提出了Nanosheet这一名称,并于2015年与GLOBALFOUNDRIES和三星公司合作发表了一篇5nm Nanosheet论文。三星最近也宣布了其3nm Nanosheet工艺平台将于2021年面世。

第一代Nanosheet材料还将是硅,我询问了用于未来纳米片的替代材料,他们说,除非在后段(BEOL)或寄生电容电阻方面取得技术突破,否则沟道替代材料将不值得付出如此复杂的代价。您可以调整硅沟道的晶向,以获得更高的迁移率(可以将nFET晶向定为<100>,将pFET定为<110>,以使两者的迁移率最大化)。或者超越Nanosheet架构到CFET架构(堆叠了n和p型器件的Nanosheet)。我问他们这些是否会Nanosheet架构之后发生,他们表示无法发表评论。

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