当前位置：
OFweek 电子工程网
> 正文
逼近皮米时代！ASML将于2021年推下一代3nm EUV光刻机
2020-02-19 10:23
IT之家
关注
ASML正在研发新一代EUV光刻机EXE：5000系列，最快会于2021年面世。
据IT之家了解，现在ASML销售的光刻机主要为NXE：3400B和改进型的NXE：3400C，结构上相似。差别在于NXE：3400C采用模块化设计，将平均维护时间从48小时缩短到8－10小时；NXE：3400C的产量也从125WPH提升到了175WPH。这两款EUV光刻机属于第一代，物镜系统的NA（数值孔径）为0．33。
在光刻机的分辨率公式中，NA数字越大，代表光刻机精度更高。ASML现在在研发新一代EUV光刻机EXE：5000系列，NA为0．55。主要合作伙伴有Carl Zeiss AG和IMEC比利时微电子中心。
据悉，EXE：5000系列EUV光刻机主要面向3nm时代，目前台积电和三星的制程工艺路线图已经到了3nm，要想让技术尽快落地到实际，EXE：5000系列EUV光刻机的研发极为重要。
据ASML的爆料，EXE：5000系列EUV光刻机样机最快会于2021年面世，最快可能会于2023年或者2024年上市。
光刻机是目前世界上最复杂的精密设备之一，芯片制造的核心设备之一，除了可以用来生产芯片，还有用于封装的光刻机、LED制造领域的投影光刻机。作为全球唯一能生产EUV光刻机的公司——荷兰ASML公司。去年共销售26台EUV光刻机，用于台积电、三星的7nm和5nm工艺制造。
作者：远洋
分享
声明：
本文由入驻维科号的作者撰写，观点仅代表作者本人，不代表OFweek立场。如有侵权或其他问题，请联系举报。
图片新闻
最新活动更多
-
即日-12.5立即观看>> 松下新能源中国布局：锂一次电池新品介绍
-
12月12日火热报名中>>> STM32全球线上峰会
-
即日-12.18立即报名>>> 【在线会议】Automation1微纳精密运动控制系统
-
12月19日立即报名>> 【线下会议】OFweek 2024（第九届）物联网产业大会
-
即日-12.26立即报名>>> 【在线会议】村田用于AR/VR设计开发解决方案
-
1月8日火热报名中>> Allegro助力汽车电气化和底盘解决方案优化在线研讨会
发表评论
请输入评论内容...
请输入评论/评论长度6~500个字
暂无评论
暂无评论