ASML子公司Cymer最新ArF光源通过ASML扫描仪认证
2020-07-02 11:33
来源：
OFweek电子工程网
ASML子公司Cymer是行业领先的EUV大功率光源制造商。日前，该公司宣布其第7代光源XLR 960ix已经通过了ASML NXT：2050i扫描仪的认证。硬件的进步改善了过程控制，提高了ArF浸入式光刻系统的可用性、可持续性及生产力。
Cymer公司产品开发部副总裁David Knowles说：“随着芯片制造商在混配制造环境中持续扩大ArF浸入式光源和EUV光源的使用，与之匹配的高工艺控制要求也变得越来越重要。”XLR 960ix的设计减少了光源自然产生的散斑，由此降低了线宽粗糙度，能够改善整体边缘放置误差。
且XLR 960ix采用了新的光脉冲扩展器，可以增加脉冲持续时间，减少30％的散斑，从而提升局部CDU性能。光源本身会产生散斑，当曝光晶圆时，这种自干涉形式会导致光强不均匀，并致使局部光源分配变化。
为了跟上芯片制造商不断增长的晶圆产量，Cymer还采用了最新设计的第五代Chamber模组，允许产能大的晶圆厂在定期维护期间运行大约一年。这项技术已经在Cymer现有的ArF浸入式系统上进行了12个多月的实地测试，现在已开始向客户提供。此外，XLR 960ix还通过弱化自动校准，降低电力和气体消耗来增强设备的可持续性。
XLR 960ix预计将于2020年第三季度实现对主要芯片制造商的交付。
分享
声明：
本网站所刊载信息，不代表OFweek观点。刊用本站稿件，务经书面授权。未经授权禁止转载、摘编、复制、翻译及建立镜像，违者将依法追究法律责任。
图片新闻
技术文库
最新活动更多
-
即日-12.26立即报名>>> 【在线会议】村田用于AR/VR设计开发解决方案
-
1月8日火热报名中>> Allegro助力汽车电气化和底盘解决方案优化在线研讨会
-
1月9日立即预约>>> 【直播】ADI电能计量方案：新一代直流表、EV充电器和S级电能表
-
即日-1.14火热报名中>> OFweek2025中国智造CIO在线峰会
-
即日-1.16立即报名>>> 【在线会议】ImSym 开启全流程成像仿真时代
-
即日-1.20限时下载>>> 爱德克（IDEC）设备及工业现场安全解决方案
推荐专题
发表评论
请输入评论内容...
请输入评论/评论长度6~500个字
暂无评论
暂无评论