武汉建厂 DRAM发展凭借大基金和挖角就够?
2015-06-19 04:24
来源:
OFweek电子工程网
首先是通过到台湾和先进企业挖角,以过往状况来看,中国挖角给薪并不手软,2012 年京东方、华星光电等中国面板厂就以 3~4 倍薪水挖角台湾面板人才,除了重金,股票也成了诱因,据联合晚报 2014 年 10 月披露的消息,中国半导体大厂以年薪 250 万、150~200 万未上市股权,约联发科工程师两倍的条件抢人。通过高新能够吸引一部分人才的加入。
其次则是技术,目前传出中国也循展讯与英特尔合作模式与美光、SK 海力士洽谈技术合作,据悉后者表示具高度兴趣。如果技术到位,将先切入技术较容易的标准型存储器与利基型存储器,再进军近年成长快速的Mobile DRAM。关于在存储器方面的严重的技术壁垒,在这里就不再详细介绍。
不过,即便有了大基金的支持以及解决人才和技术难题的策略。DRAM产业想要迅速发展起来也并不容易,钱能够买来人才和一些不先进的技术,但是要真正的强大起来只有通过整个产业链的发展来增强产品的实力最终具备全球竞争力,而不是单纯的自产自销。
DRAM厂落户武汉的消息也是国内半导体产业发展DAM的新进展。配合呼之欲出的发展策略,以及在大基金支持下获得人才和技术的两个关键因素。国内DRAM产业正式进入快车道发展,但是3-7年的技术整合以及打破现有的技术壁垒仍然是不可绕开的问题。
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