据说1nm光刻机已经被设计出来了，没错，还是ASML做到的……
2020-12-06 22:05
来源：
OFweek电子工程网
据日媒近日消息，IMEC公司（比利时的一家微电子研究机构，总部在比利时鲁汶，是一个专注于纳米科技的世界级研究中心）在ITF Japan 2020大会上公布了3nm、2nm、1．5nm以及1nm以下的逻辑器件小型化路线图。根据IMEC首席执行官兼总裁Luc Van den hove透露，IMEC公司与ASML紧密合作，将推进下一代高分辨率EUV光刻技术商用。目前，ASML已完成作为NXE：5000系列的高NA EUV曝光系统的基本设计，将应用于1nm光刻机，预计2022年即可商用。
分享
声明：
本网站所刊载信息，不代表OFweek观点。刊用本站稿件，务经书面授权。未经授权禁止转载、摘编、复制、翻译及建立镜像，违者将依法追究法律责任。
图片新闻
技术文库
最新活动更多
-
即日-1.16立即报名>>> 【在线会议】ImSym 开启全流程成像仿真时代
-
即日-1.20限时下载>>> 爱德克（IDEC）设备及工业现场安全解决方案
-
即日-1.24立即参与>>> 【限时免费】安森美：Treo 平台带来出色的精密模拟
-
即日-1.31立即参与>>> 【限时免费下载】村田白皮书
-
即日--2.7了解详情>> 【森海塞尔】TeamConnect系列产品——提升视听之体验，塑造音频之未来
-
限时免费立即试用>> 燧石技术，赋光智慧，超越感知
推荐专题
发表评论
请输入评论内容...
请输入评论/评论长度6~500个字
暂无评论
暂无评论