一文读懂韩国半导体发家史,如何走上第一梯队的?
超越:三星的崛起
1983年是韩国半导体产业的历史转折点。
韩国财团的进入让半导体行业进入大规模集成(VLSI)生产时代,这些包括三星、金星社以及现代公司(后改名为海力士半导体,并被SK集团收购)等企业。这实现了韩国工业的质变——从简单的装配生产到精密的晶片加工生产。
20世纪80年代,三星和现代的财团都在寻找未来的商业领域,最终他们的目标是,从工业基地转型为更具高科技导向的产业。当三星决定通过其电子业务进入大规模集成芯片生产时,现代决定将芯片生产作为实现其向电子产业多样化的一个途径。而随后金星社的加入,让韩国最大的三家财团均参与进VLSI生产。
三星发展半导体产业是一部浓缩的韩国半导体产业发展史。
前三星集团首席执行官李秉哲(Lee Byung Chul)在1983年2月决定对内存芯片生产进行大规模投资。这被认为是一个非常大胆的决定。因为当时韩国仍是一个简单的装配生产基地,1983年,整个半导体生产中晶圆加工的份额也仅为4.3%。
根据三星的官方策略解释,三星电子公司当时遭遇了日本进口芯片的频繁交付问题。以上的所有因素促使李秉哲尝试进入VLSI芯片业务。
三星制定了一个详细的计划,根据这个计划,三星全部半导体产品中大约50%应该是DRAM。通过对精心挑选的DRAM领域关注,实现规模经济和成本的竞争力。
其后,SST国际公司在硅谷成立,成为三星的技术前哨。SST国际公司(与Tristar半导体公司同年更名)为三星的产品开发做出了重大贡献,SST国际公司成功开发的产品会转让给韩国的母公司SST,用于批量生产,这对三星的技术开发起到了至关重要的作用。
1983年,三星在京畿道器兴地区建成首个芯片厂,并开始了接下来的一系列动作。三星电子首先向当时遇到资金问题的美光(Micron)公司购买64K DRAM技术,加工工艺则从日本夏普公司获得,此外,三星还取得了夏普“互补金属氧化物半导体工艺”的许可协议。
在此过程中,三星等韩国公司已逐渐熟悉渐进式工艺创新,加上这些公司逆向工程方面的长期经验,韩国的半导体产业进入了发展的快车道。
在选择DRAM作为主要产品后不久,三星于1983年11月成功研发了64K DRAM。从技术上讲,韩国半导体行业实现了从相对简单的LSI技术到尖端的VLSI技术的重大飞跃。由此,1983年标志着韩国VLSI芯片时代的开始。不可否认的是,在最初阶段,外国技术许可在三星产品开发中发挥了至关重要的作用。
随后,三星电子1984年成立了一家现代化的芯片工厂,用于批量生产64K DRAM。1984年秋季首次将其出口到美国。1985年成功开发了1M DRAM,并取得了英特尔“微处理器技术”的许可协议。
此后三星在DRAM上不断投入,韩国政府也全力配合。由韩国电子通信研究所【KIST,由韩国科学和技术部(MOST)管理】牵头,联合三星、LG、现代与韩国六所大学,“官产学”一起对4M DRAM进行技术攻关。该项目持续三年,研发费用达1.1亿美元,韩国政府便承担了57%。随后韩国政府还推动了16M / 64M DRAM的合作开发项目。
1983年至1987年间实施的“半导体工业振兴计划”中,韩国政府共投入了3.46亿美元的贷款,并激发了20亿美元的私人投资,这大力促进了韩国半导体产业的发展。
在1987年,世界半导体市场还出现另一个机会,这源自美国和日本之间的半导体贸易冲突以及随后的政治调控。1985年以后,日本DRAM生产商市场份额的增加,被认为是牺牲了美国生产商的利益,美日之间的贸易冲突日益加剧。
日本首先宣布对外国半导体生产商实施半导体贸易协定(STA),美国政府则于1987年3月宣布了对含日本芯片的日本产品征收反倾销税等报复措施。
最终,日本承诺通过减少DRAM产量来提高芯片价格。但当时美国计算机行业需求增长,导致全球市场上256K DRAM的严重短缺。这为韩国256K DRAM生产商提供了重要的“机会之窗”。
此后韩国一直在赶超。1988年三星完成4M DRAM芯片设计时,研发速度比日本晚6个月,随后三星又趁着日本经济泡沫破裂,东芝、NEC等巨头大幅降低半导体投资时机,加大投资,引进日本技术人员。并于1992年开发出世界第一个64M DRAM,超过日本NEC,成为世界第一大DRAM制造商。
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