韩国EUV光刻技术获重大突破
2020-11-18 23:04
来源：
OFweek电子工程网
11月17日消息，韩国知识产权局（KIPO）公布的统计数据显示，2011－2020年,韩国EUV光刻专利2014年有88项，2018年有55项，2019年则为50项。
据报道，以三星为代表的韩国企业通过不断的在研究开发方面投入，在EUV光刻技术上不断缩小与行业领先企业之间的差距。近期，三星正式推出的Exynos1080芯片，背后就有对EUV光刻机技术突破的因素。
Exynos1080芯片是三星首款基于5nm工艺制造的手机SoC芯片。
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