ASML第二代EUV光刻机为何跳票3年？

2021-06-08 10:08

ASML是全球唯一一家量产EUV光刻机的,台积电、三星、Intel的7nm、5nm及未来的3nm、2nm都要依赖EUV光刻机,单台售价超过1亿美元,成本极高。

ASML的EUV光刻机目前使用的还是第一代,EUV光源波长在13．5nm左右,物镜的NA数值孔径是0．33,发展了一系列型号。

其中最早量产出厂的是NXE:3400B,产能有限,一小时生产晶圆是125PWH,目前的出货主力是NXE:3400C,产能提升到135WPH,今年底还有NXE:3600D系列出货,产能再进一步提升到160WPH,不过价格也会提升到1．45亿美元了。

现在第一代的EUV光刻机NA指标太低,第二代EUV光刻机会是N XE:5000系列,其物镜的NA将提升到0．55,进一步提高光刻精度,半导体工艺突破1nm工艺就要靠下一代光刻机了。

然而NA 0．55的二代EUV光刻机没那么容易,原本预计最快2023年问世,最新传闻称NXE:5000系列跳票,而且一下子就跳票三年,要到2025-2026年才有可能问世了。

不仅时间延期,二代EUV光刻机的价格也会大涨,预计轻松达到3亿美元,是现有EUV光刻机的2-3倍,这就意味着未来的芯片工艺成本极其昂贵,哪怕真能做到1nm工艺,那高昂的成本也会让大多数公司退而却步。

按照这样的发展下去,估计1nm工艺的大客户就剩下苹果自己了。

作者:宪瑞来源:快科技

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