又一家中国大陆厂商,生产出光刻机?精度为3μm?
众所周知,全球能够生产芯片光刻机的厂商只有四家,分别是荷兰的ASML,日本的尼康、佳能,中国的上海微电子。
其中ASML的技术最强,是唯一能够和生产EUV光刻机的厂商,目前精度已经支持到3nm。接着是尼康,其浸润式光刻机,分辨率可达到7nm及以下。
再是佳能,其干式光刻机,可实现55nm及以上的分辨率,上海微电子也是干式光刻机,分辨率标注为90nm。
不过近日,有网友表示,全球第五家光刻机厂商诞生了,并且还是一家中国大陆的厂商,一时之间让大家兴奋不已,毕竟目前在半导体设备领域,我们最落后的就是光刻机了,有了突破必须兴奋啊。
这家厂商叫大族激光,是国内顶尖的激光设备龙头,在全球激光设备企业中,Trumpf营收、利润规模第一,大族激光营收、利润规模排名第二。
大族激光在互动平台中表示,公司的光刻机项目主要应用在分立器件领域,分辨率3-5μm;其中,接近式光刻机已投入市场,步进式光刻机已启动用户优化。
这基本上就证实了大族激光拥有自己的光刻机,所以网友们当然很兴奋了, 虽然接近式(也称接触式)、步进式光刻机技术相对于上海微电子还比较落后,但也是光刻机啊。
我们先说一个技术上的常识,光刻机在曝光方式上可以分为三类:接触式光刻机、接近式光刻机和投影式光刻机。
像前面提到ASML、尼康、佳能、上海微电子这四大,均使用的是投影式光刻机,目前已经第4代。
但其实目前像能够生产接触式、步进式光刻机的厂商还有很多,这些分别是第一、二代光刻机。只是这些光刻机,生产的芯片工艺很是成熟,大多都是μm级别,达不到nm工艺,所以大家习惯性的不说这些光刻机。
故,大族激光也表示,自己的光刻机项目主要应用在分立器件领域,分辨率为3-5μm。所以这种光刻机,并不是大家想的能够制造高端芯片的光刻机,也并不是当前的主流芯片制造的光刻机,大家不必太激动。
当然,任何技术都是从低端开始的,大族激光虽然现在只能够生产接触式、接近式光刻机,说不定后续也能够生产浸润式、EUV光刻机呢,所以我们还是可以报以极大的期待的。
原文标题 : 又一家中国大陆厂商,生产出光刻机?精度为3μm?
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