半大马士革工艺
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进入14nm工艺,国产光刻胶大突破,减少对日本的依赖
目前的芯片制造工艺,均是光刻工艺,即通过光学--化学反应原理,将电路图传递到硅晶圆上,形成有效的电路图形。 而光刻工艺过程中,除了光刻机这种设备之外,还有一种化学材料必不可少,那就是光刻胶,它是光刻工艺中最核心的耗材,其性能决定着光刻质量
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LD芯片的工艺制作流程
脊型GaAs基LD激光芯片工艺过程: 这个流程算是LD最基础的流程,第一步做Mesa台阶,第二步做SiO2阻挡层,第三步做P电极、第四步做减薄、抛光;第五步做N电极。然后就是切片、测试、封装
LD芯片 2023-11-14 -
台积电认清了现实,3纳米失败了,加快改良3纳米工艺
日前台积电董事长刘德音表示将在明年初量产下一代3纳米工艺,此举或许在于第一代3纳米工艺表现太差强人意,试图通过推出改良的3纳米工艺挽回客户的信心。台积电在去年底突然宣布量产3纳米工艺,还非常罕有地为3
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使用半大马士革工艺流程研究后段器件集成的工艺
SEMulator3D虚拟制造平台可以展示下一代半大马士革工艺流程,并使用新掩膜版研究后段器件集成的工艺假设和挑战作者:半导体工艺与整合 (SPI) 资深工程师 Assawer Soussou 博士
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华为麒麟9000S芯片全球解密:14nm工艺,7nm技术,5nm性能?
给大家说一个有意思的事情,华为Mate60系列手机上市快2个月了,而那颗使用的麒麟9000S芯片,到如今依然是个秘密。 它究竟是多少纳米工艺的,谁代工的,什么时候制造的,集成什么样的基带等等,一切都是谜,虽然全球媒体和科技爱好者都研究,分析,都没有得到一个明确答案
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【深度】中国航天航空产业进入加速发展期 航空航天工艺装备仍需大力发展
在政策的支持及鼓励下,中国航空航天产业全面发展,自主化程度持续提升,航空航天工艺装备逐步朝向高端化、智能化、多元化发展。 航空航天工艺装备主要是指用于航空航天零部件及相关设备的制
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华为重返5G市场的3大难点:制造工艺、ARM授权、5G射频
最近有很多媒体报道称,华为要重返5G芯片市场,最早在今年10月份,可能就会推出5G手机。 当然这消息真假未知,有人说是真,也有人说是假,估计只有当10月份到的时候才知道真假了。不过,我还是想聊一聊,华为重返5G芯片市场,推出5G芯片和5G手机究竟有多难,至少3三个问题要解决
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[电动空中的士],离我们还有多远?
前言: 目前,要采用电力系统直接驱动大型飞机还有一定困难。 根据航空工业未来发展的推测,在2030年之后可能会出现新型混合动力分布式推进的支线飞机。 作者 | 方文三 图片
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中国半导体特色工艺的机会来了
总体来看,当下的晶圆代工业,有两类代工厂,一类专注于数字技术,以满足行业对存储、CPU和逻辑芯片的代工需求,这类多采用先进制程工艺,目标是实现更小的节点尺寸和更高的运算能力,其产品生命周期较短,因为制程节点在不断演进
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荷兰芯片禁令中最后的一个“漏洞”:光刻机,能支持7nm工艺
紧随美国、日本,近日荷兰终于也发布了芯片禁令,并表示将于2023年9月1日正式生效。 如之前预计的一样,荷兰的芯片禁令,主要针对的对象为先进确实为先进的芯片制造技术,包括先进的沉积设备和浸润式光刻系统等
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告别自嗨,中芯下架14纳米而深耕成熟工艺,更符合当前的现实
这几年国产芯片屡屡说先进工艺研发难度不大,14纳米已量产,7纳米也不在话下,不过随着中芯官网暂时下架14纳米,这或许让国产芯片行业告别自嗨,明白我们的现实,先深耕28纳米等成熟工艺,满足当下的要求。
中芯国际 2023-06-25 -
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国产CPU雄起了?用12nm工艺对标AMD的7nm,intel的10nm芯片
众所周知,在芯片产业上,工艺的提升,一定程度上代表的就是性能的提升。 因为采用越小的工艺时,晶体管的密度越高,那么同样芯片面积下,集成的晶体管就越多,那么性能就越高,同时功耗也控制的越好。 这也是
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国产芯片成熟工艺产能激增,位居全球第三,第二名已经触手可及
在先进工艺备受关注的时候,成熟工艺如今却悄悄地再度获得追捧,而在40纳米以上的成熟工艺,中国最大的芯片制造企业中芯国际的芯片产能占比已达到全球第三,离第二名的联电差距已很小。 市调机构Count
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Intel明年上3nm工艺 144核心!AMD Zen5全家福亮相
Intel公司今天发布了Q1季度财报,还公布了旗下的先进工艺及处理器的进展,该公司预计4年内掌握5代CPU工艺,目前Intel 7及Intel 4工艺已经基本完成,2025年希望重新成为半导体工艺的领导者
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使用虚拟实验设计加速半导体工艺发展
虚拟DOE能够降低硅晶圆测试成本,并成功降低DED钨填充工艺中的空隙体积作者:Coventor(泛林集团旗下公司)半导体工艺与整合(SPI)高级工程师王青鹏博士实验设计(DOE)是半导体工程研发中一个强大的概念,它是研究实验变量敏感性及其对器件性能影响的利器
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中国量产12纳米工艺,第四代芯片材料也取得了突破,拜登心都碎了
美国一直都在试图遏制中国芯片的发展,近期美国总统拜登拉拢了日本和荷兰限制先进芯片设备供应,以为如此做就能阻挡中国芯片的发展,然而中国芯片却在近期公布了好几项技术进展,让美国的图谋落空。
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芯片工艺14纳米实现国产化,7纳米量产也就快了
某国产手机芯片企业表示它已搞定14纳米以上的EDA工具全国产化,纯国产芯片变成现实,如此也就说明国产的28纳米光刻机已投入生产线,28纳米光刻机对于国产7纳米具有独特的意义,实现7纳米的国产化有了希望
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14纳米纯国产,7纳米工艺量产也快了,外媒:挡不住中国芯片了
日前国内一家科技企业表示它已实现14纳米工艺的纯国产,这意味着国内的芯片制造产业链已达到14纳米,光刻机问题估计已得到解决,如此对于中国的芯片制造这个大难题或许也已取得了重大突破。 该科
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