新型EUV光源
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美国,重金砸向EUV技术
本文由半导体产业纵横(ID:ICVIEWS)综合 一场价值不菲的科技豪赌。 据报道,美国政府投资价值约10 亿美元的研究中心,以开发下一代极紫外光(EUV)制程技术,挑战荷兰产业领导者艾司摩尔(ASML)
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OpenAI携手博通与台积电,开发新型AI推理芯片
本文由半导体产业纵横(ID:ICVIEWS)综合 放弃单打独斗,OpenAI携手博通开发首款AI芯片。 人工智能初创公司OpenAI正在与芯片制造商博通合作开发一款新型人工智能芯片,该芯片将专门用于AI模型的推理过程
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Quintus 推出世界上规模最大的HPP超高压加工系统:QIF 600L 新型 HPP 压机将产能提高到新高度
瑞典韦斯特罗斯,2024年10月30日—— Quintus Technologies全新HPP超高压加工系统QIF 600L首次亮相,标志着Quintus再次提升了超高压加工领域标准,树立行业新标杆。这款新型压机以惊人的600升缸体容量傲视业界,成为目前已知行业内规模最大的压机
Quintus 2024-10-30 -
2024碳中和创新论坛——新型储能技术及应用圆满收官!
2024年10月14-16日,2024慕尼黑华南电子展在深圳国际会展中心(宝安新馆)如期举办,其中,由慕尼黑展览(上海)有限公司、OFweek电子工程网、OFweek储能网主办的“2024
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适用在健康照明领域的RG0全谱LED光源防蓝光灯珠
随着科技的飞速发展进步推动下,LED光源因其高效节能的特性迅速普及,成为照明领域的主流选择。随着学龄儿童视力问题的日益增多,社会对“健康照明”的需求也日益凸显,成为公众关注的焦点
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莫仕推出新型Percept电流传感器,应用于工业和汽车领域,旨在提升设计灵活性和简化系统集成的复杂度
该电流传感解决方案采用了英飞凌的无磁芯电流传感元件设计与差分霍尔技术,确保了高精度的电流检测和出色的抑制干扰能力。 采用独特的电子器件封装技术,显著缩减了传感器的体积和重量,使其尺寸仅为同类产品的一半,重量更是减少了86%
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倒计时!2024 碳中和创新论坛——新型储能技术及应用论坛等你赴约
2024 慕尼黑华南电子展(electronica South China)将于 10 月 14-16 日在深圳国际会展中心(宝安新馆)举办,今年展会现场将继续举办 “2024 碳中和创新论坛——新型储能技术及应用论坛”
2024 碳中和创新论坛 2024-10-10 -
新型光距感接近传感WH4530A【高灵敏、精准测距】
WH4530A是一款创新型光距感接近传感器,集成了三合一为一体设计封装的新型测距芯片;包含了先进的环境光传感器(ALS)、先进的接近传感器(PS)和高效率的红外LED灯形成一体化设计;采用极小封装和I2C接口模式,具有超高的灵敏度和精准的测距范围,涵盖了0-100cm的测距范围
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面向半导体客户的创新型产品解决方案:瓦克成功开发供高性能芯片使用的新型特种硅烷
慕尼黑,2024年9月5日—瓦克拓展面向半导体工业的专业产品组合,成功开发出一种新的供高集成型存储芯片和微处理器生产使用的前驱物。相应电脑芯片可用于需要完成高度复杂的计算任务的领域,如,人工智能、云计算等
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Vishay新型硅PIN光电二极管,提高在生物医学应用中的灵敏度
美国 宾夕法尼亚 MALVERN、中国 上海 — 2024年8月20日 — 威世科技Vishay Intertechnology, Inc.(NYSE 股市代号:VSH)宣布,
Vishay 2024-08-20 -
以激光作为光源进行测距的接近传感芯片WH4530A
激光测距(laser distance measuring)是以激光器作为光源进行测距。激光测距由于激光的单色性好、方向性强等特点,加上电子线路半导体化集成化,与光电测距仪相比,不仅可以日夜作业、而且能提高测距精度
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新型传感器解决方案可通过增强保护功能提高设计效率和可靠性
美国新罕布什尔州曼彻斯特 - 运动控制和节能系统传感技术和功率半导体解决方案的全球领导厂商Allegro MicroSystems(纳斯达克股票代码:
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可量产0.2nm工艺!ASML公布超级EUV光刻机:但死胡同也不远了
ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机,同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机,预计可将半导体工艺推进到0.2nm左右,也就是2埃米。 ASML
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阿斯麦和IMEC联合光刻实验室启用:最早2025年大量生产High NA EUV
快科技6月4日消息,据媒体报道,比利时微电子研究中心(IMEC)与阿斯麦(ASML)宣布在荷兰费尔德霍芬(Veldhoven)开设联合High-NA EUV光刻实验室(High NA EUV Lithography Lab)
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台积电买的ASML EUV光刻机被曝暗藏后门:可以远程自毁!
据外媒报道,台积电从荷兰ASML(阿斯麦)购买的EUV极紫外光刻机,暗藏了一个致命的后门,可以在必要的时候执行远程自毁。 至于这个自毁开关为何存在,意在何时使用,无需赘言。 但目前尚不清楚它到底是否真的存在,以及具体是如何工作的,ASML、台积电也均未公开回应
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【深度】TEC(半导体制冷器)是新型制冷技术 我国市场需求持续增长
TEC具有温控精确、响应速度快、制冷效果好、无需制冷剂、能耗低、体积小、重量轻、无噪声、可靠性高等特点 TEC,中文名称半导体制冷器,基于珀尔帖效应进行制冷,即利用两种不同半导体材料组成回路,通电时产生吸热、放热现象来实现制冷
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光刻机巨头阿斯麦业绩爆雷 股价大跌:网友支招7nm以下EUV给中国厂商供货
快科技4月18日消息,光刻机巨头阿斯麦(ASML)业绩爆雷,这也导致公司股价大幅下挫。 阿斯麦发布的2024年第一季度财报。财报数据显示,公司今年一季度营收端大幅下滑,实现营收52.9亿欧元,同比下降21.6%,不及市场预期:公司一季度净利润为12.24亿欧元,同比下滑37.4%
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【Panduit】泛达工业电气在此推出八款提高项目效率的新型下一代蓝牙 BLACKFIN? 工具
关于电池供电的新型电动液压蓝牙工具关于电池供电的新型电动液压蓝牙工具。这些工具为软线和编码线提供 14 AWG; 1000 kcmil 的压线范围,使用的压线模具和嵌件与Panduit当前一代的 BlackFin
Panduit 2024-03-18 -
未来芯片巅峰!ASML露面的High NA EUV光刻机,为2纳米技术揭开神秘面纱
(本篇文篇章共715字,阅读时间约1分钟) 近日荷兰光刻机巨头ASML首次向媒体展示了最新一代的High NA EUV光刻机,这一机器被视为全球最先进的光刻技术,能够制造2纳米以下的芯片
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台积电计划在2030年采用High-NA EUV光刻机完成1nm制程芯片
(本篇文篇章共935字,阅读时间约1分钟) 近期,台积电发布了其在1nm制程芯片领域的产品规划,计划在2030年前完成1nm级A10工艺的开发。这一计划是在ASML交付给英特尔业
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一台近30亿元!ASML明年生产10台全新EUV光刻机:Intel独吞6台
集邦咨询的报告显示,ASML阿斯麦将在2024年生产最多10台新一代高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机,其中Intel就定了多达6台。同时,三星星也在积极角逐新光刻机,台积电感觉压力巨大。NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标,直接决定了光刻的实际分辨率,以及最高能达到的工艺节点
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怎么办?EUV光刻机前进的3个方向,已全部是绝路
众所周知,随着芯片工艺的不断前进,光刻机也是不断的改进,越来越先进,越来越精密。 比如普通DUV光刻机,只能生产最低65nm的芯片,而浸润式DUV光刻机,则能生产最低7nm芯片,EUV光刻机则能生产5nm及以下的芯片
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RG0标准全光谱LED光源—台湾旺泓防蓝光灯珠
随着LED行业照明的发展;以及我国儿童青少年近视综合防控工作的推进和深入,灯具光源的重要性越发凸显,能为人类提供更高光色品质、更舒适健康的光环境的照明技术成为研究突破方向。 全光谱LED光源的出现,
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长安储能研究院:移动储能车作为新型的能源储备设备,拥有巨大的市场空间
长安储能研究院是长安绿电旗下的能源研究机构。研究院的科学家均来自西安交通大学教授,研究院聚焦储能领域的前沿技术研究和市场洞察。近日,长安储能研究院发布了《移动储能车行业研究报告》,报告指出移动储能车具
长安储能 2023-11-09
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