ASML最新EUV光刻机：27亿元，150吨重，250人要安装180天
众所周知，目前全球仅ASML一家能够生产EUV光刻机。
目前ASML对外出货的光刻机，其实均是数值孔径NA=0.33的光刻机，这种称之为低数值孔径的光刻机，一般用于3nm-7nm芯片的光刻。
而当芯片进入到3nm之下，也就是2nm、1.4nm、1nm芯片时，需要用到高数值孔径的光刻机，也就是NA=0.55的光刻机，型号应该是EXE：5200。
前段时间ASML终于将全球首台高数值孔径的光刻机EXE：5200，交付给了英特尔。
这台光刻机有多恐怖？首先是售价高达3.5亿欧元（约合27亿元人民币）。同时其大小约等于一辆双层巴士，重量高达150吨，也就是150000KG。
而这样的光刻机，是无法安装完全后，再运输的，运输时以会拆开，以组件的方式运送到客户单位，然后再组装。
运送的时候，需要用到250个货箱，而安装的时候，需要用到250名工程师，然后需要6个月的时间，才能全部组装完成，并联调到位。
所以，虽然ASML向英特尔交付了全球首台高数值孔径的EUV光刻机，但实际上，只是运送到英特尔，接下来这台光刻机正式启用运转，至少得半年之后。
而按照英特尔的计划，自己的INTEL 2工艺，也就是2nm芯片，得到2025年才能制造出来，所以这台光刻机的实际运转日期，也会到2025年去了。
之前ASML的总裁称，当数值孔径达到0.55之后，暂时可能就会告一段落了，甚至是最后一代EUV光刻机都有可能，ASML表示在现有技术条件之下，他们无法再提升数值孔径了。
目前EUV光刻机提升分辨率，有三个方向，一是降低光源波长，但13.5nm的极紫外线已经是极限，无法再降低了。二是提升数值孔径，但这一步也卡住了，ASML表示无法提升了，0.55是极限了。
还有就是提升光刻工艺因子，但目前的技术，也接近物理极限，无法提升了。
短时间来看，三个方向都是绝路，也就意味着EUV光刻机的分辨率暂时无法提升了，那么接下来，EUV光刻机的发展，会朝哪个方向呢？谁也不清楚。
那么佳能的NIL纳米压印等，在未来会不会接替EUV光刻机，成为主流呢？
原文标题 : ASML最新EUV光刻机：27亿元，150吨重，250人要安装180天
分享
图片新闻
技术文库
最新活动更多
-
即日-12.26立即报名>>> 【在线会议】村田用于AR/VR设计开发解决方案
-
1月8日火热报名中>> Allegro助力汽车电气化和底盘解决方案优化在线研讨会
-
1月9日立即预约>>> 【直播】ADI电能计量方案：新一代直流表、EV充电器和S级电能表
-
即日-1.14火热报名中>> OFweek2025中国智造CIO在线峰会
-
即日-1.20限时下载>>> 爱德克（IDEC）设备及工业现场安全解决方案
-
即日-1.24立即参与>>> 【限时免费】安森美：Treo 平台带来出色的精密模拟
推荐专题
发表评论
请输入评论内容...
请输入评论/评论长度6~500个字
暂无评论
暂无评论