ASML新一代光刻机：可造3nm芯片，造价比EUV贵一倍！

2021-12-13 15:10

国内高端光刻机急缺

光刻机是发展芯片的关键技术，但我国光刻机技术薄弱，尽管近些年来ASML连反“示好”，有意与国内众多芯片企业达成合作，却一直受到来自国际势力的反对。

虽然说当前全球芯片稀缺的多为中低端芯片，但高端芯片依然是助力各国社会经济发展的重要推动力，尤其是在国内通讯、军工、医疗等涉及民生保障的行业更是如此。如果我国缺乏EUV光刻机，那么就意味着我国无法生产更高端的芯片，即使拥有更高端芯片的制程，没有光刻机一切都是空谈，会陷入“有炮无枪”的尴尬境地。

好消息是，近日又有两家半导体厂商购得ASML光刻机。一家是第三代半导体厂商英诺赛科，另一家是本土光刻胶企业晶瑞电材。虽然不像中芯国际一样，直接涉及高端芯片制造产业，但也说明光刻机在对华合作程度上进一步紧密。

就在今年上海进博会上，ASML全球副总裁、中国区总裁沈波就光刻机再次表态称，向我国出口集成电路光刻机持开放态度，在法律法规框架下全力支持。不过，EUV光刻机依然无法出货给大陆客户，但除此之外其他产品都可以出货。也就是说，DUV光刻机不受其他限制。

此前，ASML曾连续四次公开表态。第一次表示会加快布局我国市场，提供更加完善的售后服务。第二次直接表示向国内厂商销售DUV光刻机，不需要许可。第三次直接提高了对我国市场的营收预期。在去年的进博会上，ASML第四次表示向我国出售光刻机持开放态度。

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