光刻胶材料问题
-
英伟达Blackwell再传过热问题
本文由半导体产业纵横(ID:ICVIEWS)综合 英伟达重新设计 NVL72 服务器以解决过热问题。 据The Information报道,英伟达的下一代 Blackwell 处理器在安装在高容量服务器机架时面临着过热的重大挑战
-
英伟达Blackwell新款芯片过热:面临延迟交付问题
快科技11月18日消息,据报道,英伟达新款Blackwell AI芯片已经面临延迟,并且伴随着配套服务器出现的过热难题,这一连串的挑战引发了用户对于新数据中心能否如期启动并顺利运行的深切忧虑。 据内
-
不会对CS和EFT噪声环境产生任何问题的16通道触摸芯片-GT316L
电容式触摸芯片的工作原理主要基于电容感应技术,包括自电容感应和互电容感应。当人体手指靠近或触摸电容触摸系统时,会增加电容系统的导电表面积,从而改变电容值。电容式触摸芯片广泛应用于各种电子设备中,如智能手机、平板电脑、智能家居设备等
-
小米的3nm和燕东微用的光刻机
文:诗与星空 ID:SingingUnderStars 最近一则消息沸沸扬扬,北京电视台在一次例行的新闻播报中,称小米自研了3nm的手机芯片。 开香槟的和冷嘲热讽的皆有之,后者居多
-
业绩暴雷!ASML股价继续大跌:想卖先进光刻机给中国厂商 但不被允许
快科技10月17日消息,由于业绩暴雷,这导致光刻机龙头ASML股价暴跌,而两天时间股价已跌超20%。 据官方公布的数据看,阿斯麦(ASML)今年第三季度接到的订单大幅减少,总订单金额约为26亿欧元,不到上一季度近56亿欧元的一半
-
全球光刻机巨头业绩“爆雷”,阿斯麦单日股价跌幅创26年之最
日前,全球光刻机巨头阿斯麦(ASML)发布的财报,由于财报数据远低于预期,阿斯麦的股价在短时间内出现了大幅波动,创下了近年来的单日最大跌幅。 阿斯麦发布的财报显示,公司在2024年第三季度的订单额仅为26.3亿欧元,环比下降53%,远低于市场预期的53.9亿欧元
-
在特种合金材料领域,河北杀出一个隐形冠军
前言: 航空航天领域作为上大股份高温合金及超高强合金的主要应用领域,具有极高的技术门槛和市场价值。 其中,变形高温合金作为高温合金中应用最为广泛的一类,其占比高达70%,凸显了公司在该领域的深厚技术积累和市场优势
-
特种玻璃巨头肖特发力半导体业务,新材料基板成为下一代芯片突破口
·后摩尔时代到来,全球行业头部公司先后宣布,选择特种玻璃作为下一代半导体封装基板最具潜力的新材料之一,并且在近两年纷纷布局相关产线。·行业数据演示,使用玻璃基板可以使芯片速度最高可加快40%、能耗减少最低可到50%
肖特 2024-09-18 -
被美国要求不能帮中国厂商维修、更不能卖光刻机:ASML称要反击了
快科技9月5日消息,据国内媒体报道称,ASML CEO公开回应了对华出口限制,他们会有更多应对措施(反击措施)。 荷兰计算机芯片设备供应商ASML首席执行官Christophe Fouquet当地时
-
可量产0.2nm工艺!ASML公布超级EUV光刻机:但死胡同也不远了
ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机,同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机,预计可将半导体工艺推进到0.2nm左右,也就是2埃米。 ASML
-
光刻巨人倒下,他如何带领阿斯麦称霸半导体?
图片来源:nrc.nl by Dieuwertje Bravenboer 地时间6月11日晚间,总部位于荷兰的光刻机巨头阿斯麦(ASML)在社交平台上发文,悼念阿斯麦创始人之一维姆?特罗斯特(WimTroost)
-
光刻机巨头ASML创始人逝世:享年98岁
快科技6月12日消息,光刻机巨头ASML公司11日发文,悼念ASML创始人之一维姆·特罗斯(Wim Troost)离世。 据报道,维姆·特罗斯于6月8日逝世,享年98岁。 ASML公司表示:“Wim Troost去世了
-
美国芯片管控引ASML吐槽:倒逼中国厂商造出更先进光刻机
快科技6月7日消息,近日,ASML公司CEO公开表示,美国严厉的芯片管控规定,只会倒逼中国厂商进步更快。 ASML CEO表示,多年来,公司都不用担心设备的去向会受到政治限制,但突然之间,这却变成了全世界最重要的话题之一
-
3.8亿美元/台!台积电今年将拿到最新款光刻机:曾表态华为追不上我们
快科技6月6日消息,据外媒报道称,ASML将在今年向台积电交付旗下最先进的光刻机,单台造价达3.8亿美元。 报道中提到,ASML首席财务官Roger Dassen在最近的一次电话会议上告诉分析师,公司两大客户台积电和英特尔将在今年年底前获得所谓的高数值孔径(高NA)极紫外(EUV)光刻系统
-
【洞察】离子束光刻胶(IBL光刻胶)主要用于离子束光刻技术中 我国市场空间有望扩展
未来随着离子束光刻技术不断进步,离子束光刻胶行业发展态势将持续向好。 离子束光刻胶又称IBL光刻胶,指专用于离子束光刻工艺的光刻胶。离子束光刻胶具有化学稳定性好、分辨率高、耐辐射、热稳定性好等优势,在纳米压印技术、纳米科学研究、微电子制造以及生物医学领域拥有广阔应用前景
离子束光刻胶 2024-06-06 -
阿斯麦和IMEC联合光刻实验室启用:最早2025年大量生产High NA EUV
快科技6月4日消息,据媒体报道,比利时微电子研究中心(IMEC)与阿斯麦(ASML)宣布在荷兰费尔德霍芬(Veldhoven)开设联合High-NA EUV光刻实验室(High NA EUV Lithography Lab)
-
光刻胶的主要技术参数
1)分辨率(resolution)。区别硅片表面相邻图形特征的能力。一般用关键尺寸(CD,Critical Dimension)来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小,光刻胶的分辨率越好。 2)对比度(Contrast)
光刻胶 2024-06-04 -
台积电买的ASML EUV光刻机被曝暗藏后门:可以远程自毁!
据外媒报道,台积电从荷兰ASML(阿斯麦)购买的EUV极紫外光刻机,暗藏了一个致命的后门,可以在必要的时候执行远程自毁。 至于这个自毁开关为何存在,意在何时使用,无需赘言。 但目前尚不清楚它到底是否真的存在,以及具体是如何工作的,ASML、台积电也均未公开回应
-
如何使用带有I2C和SPI解码的示波器排查系统问题
大多数基于微控制器的设计都使用I2C或SPI,或两者兼用,来实现控制器之间以及控制器与外围芯片之间的通信。当芯片发送特定的I2C或SPI数据包时,能够看到嵌入式系统内部的操作对于排除故障至关重要
-
三星与蔡司合作,蓄力下一代光刻机
前言: 近年来,三星电子持续加大采购力度,以确保更多EUV光刻设备的供应。 其目标是,在2024年上半年进入3nm世代的第二代工艺,2025年进入2nm工艺,最终于2027年实现1.4nm工艺的突破
-
【深度】电子通道衬度成像(ECCI)可表征材料表面晶格缺陷 在冶金领域应用广泛
ECCI具有高通量、高灵敏度、高分辨率、高效率等特点,在样品表面晶格缺陷表征方面技术成熟,是一种常见的扫描电镜探测器技术,受关注度不断提高,应用范围不断扩大 电子通道衬度成像(ECCI),是对样品表面晶格缺陷进行成像的技术,一般作为探测器,用于扫描电子显微镜(扫描电镜,SEM)晶体分析领域
-
ASML被禁止维修售华光刻机!人家无所谓了
美国现在甚至不想让ASML为已经卖给中国的光刻机提供售后维护服务,不过在ASML看来,这么做影响并不大,至少基本不会影响其收入。 Peter Wennink虽然从ASML CEO的位子上退了下来,但似乎更敢说话了
-
突然下滑!全球光刻机巨头,一夜跌没1968亿
全球光刻机巨头阿斯麦,业绩也撑不住了! 4月17日,光刻机巨头阿斯麦发布了2024年第一季度财报。财报显示,公司一季度销售额为52.9亿欧元,同比下降22%,环比下降27%;净利润为12.24亿欧元,环比下降40%
最新活动更多 >
-
11月起立即报名>> 光电类专业2025年秋季空中双选会
-
11月28日立即报名>>> 2024工程师系列—工业电子技术在线会议
-
11月29日立即预约>> 【上海线下】设计,易如反掌—Creo 11发布巡展
-
即日-11.30免费预约申请>>> 燧石技术-红外热成像系列产品试用活动
-
11月30日立即试用>> 【有奖试用】爱德克IDEC-九大王牌安全产品
-
即日-12.5立即观看>> 松下新能源中国布局:锂一次电池新品介绍