EUV源

美国，重金砸向EUV技术

本文由半导体产业纵横（ID：ICVIEWS）综合一场价值不菲的科技豪赌。据报道，美国政府投资价值约10 亿美元的研究中心，以开发下一代极紫外光（EUV）制程技术，挑战荷兰产业领导者艾司摩尔（ASML)

EUV 极紫外光刻机 2024-11-05

佳能NIL设备出货：不需要EUV，制造5nm芯片，成本低90%

目前制造7nm以下芯片，全部采用光刻技术。而EUV光刻机，则是制造7nm以下芯片，必不可少的设备，全球只有ASML一家能够生产，最便宜的EUV光刻机，都需要1.5亿欧元左右一台。而像三星、台积电、

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-09-27

敏源电容式水浸方案VS传统电导式水浸传感器优势

传统的水浸传感器通常是基于电导式的设计原理，利用电极浸水后阻值的变化来进行积水检测，而采用敏源电容式水浸方案可设计非接触式电容原理的水浸检测模组；这种模组通过PCB电极构造空间电场，能够穿透塑料外壳，利用水的高介电常数差异来检测周围的水浸情况

水浸传感器电容式水浸传感水浸传感方案 2024-09-26

敏源MDC04-高精度数字电容传感芯片_可替换TI-FDC1004

MDC04是一款高精度、可靠性和多功能性的数字模拟混合信号传感集成电路，四通道电容调理芯片，能实现对物质成分的精准传感；支持多通道测量组合、单次测量、周期性循环测量等模式，同时兼容数字单总线和I²C双通信接口；主要被应用于液位检测、食品/土壤水分含量测量、以及接近/手势传感等多个领域

电容传感芯片 MDC04 FDC1004 2024-09-09

普源精电 M300多通道应力测量系统

引言材料是人类赖以生存和发展的物质基础。20世纪70年代，人们把信息、材料和能源作为社会文明的支柱。而到现代社会，材料已成为国民经济建设、国防建设和人民生活的重要组成部分。材料科学的发展在很大程度上依赖于检测技术的提高

普源精电 2024-07-15

敏源-电容式水浸传感器选型指南

敏源水浸传感器是一种基于电容检测原理的智能水浸传感器，具有非接触式感知的特点，相比传统的接触式电导型水浸传感器，电容型水浸传感器有如下鲜明特点：敏源水浸传感器采用独创的高频差分式数字电容芯片M

传感器水浸传感器电容式水浸传感器 2024-06-28

可量产0.2nm工艺！ASML公布超级EUV光刻机：但死胡同也不远了

ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机，同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机，预计可将半导体工艺推进到0.2nm左右，也就是2埃米。 ASML

ASML EUV光刻机 2024-06-17

ASML摊牌：1.4nm、0.5nm、0.2nm芯片时，才要换EUV光刻机

目前ASML对外大规模发售的光刻机叫做标准光刻机，也可称之为LOW NA EUV，意思就是其数值孔径是较低值的，所以称之为LOW，NA=0.33。这种光刻机主要用于7nm及以下芯片的制造，至于往下能够支持到多少纳米？ASML没有说

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-06-16

ASML要慌：EUV光刻机新光源出现，成本降50%，功耗降80%

目前全球仅有ASML一家能够生产EUV光刻机，而制造7nm以下芯片，又必须使用到EUV光刻机，所以ASML相当于卡住了全球先进晶圆厂的脖子。于是ASML推出的1.5亿欧元的标准EUV光刻机，台积电等厂商不得不买，后来再推出3.5亿欧元的High NA EUV光刻机，intel们继续买

ASML 光刻机 EUV 激光器蔡司芯片 2024-06-14

阿斯麦和IMEC联合光刻实验室启用：最早2025年大量生产High NA EUV

快科技6月4日消息，据媒体报道，比利时微电子研究中心（IMEC）与阿斯麦（ASML）宣布在荷兰费尔德霍芬（Veldhoven）开设联合High-NA EUV光刻实验室（High NA EUV Lithography Lab）

阿斯麦 IMEC 2024-06-05

ASML走向“末路”？台积电不买新EUV光刻机，太贵了

自从芯片产业的制造，采用光刻方式之后，光刻机就成为了不可或缺的设备之一。而当光刻进入浸润式时代后，ASML抱着台积电大腿，豪赌浸润式，彻底崛起，将尼康、佳能等远远的甩在了身后，真正一家独大。如今在浸润式光刻机领域，ASML份额超过90%，而在EUV光刻机领域，ASML的份额达到100%

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-05-27

台积电买的ASML EUV光刻机被曝暗藏后门：可以远程自毁！

据外媒报道，台积电从荷兰ASML(阿斯麦)购买的EUV极紫外光刻机，暗藏了一个致命的后门，可以在必要的时候执行远程自毁。至于这个自毁开关为何存在，意在何时使用，无需赘言。但目前尚不清楚它到底是否真的存在，以及具体是如何工作的，ASML、台积电也均未公开回应

台积电 ASML 2024-05-23

敏源-数字高精度温度探头可替代传统PT100/1000

传统模拟温度探头成本高、功耗高、数据采集不方便，而由工采网代理的敏源0.1℃数字温度探头，可替代传统的PT100/1000或升级热敏电阻探头；可应用于冷链、仓储、医疗、工业等低温/室温/高温高精度温度采集场景

数字温度探头敏源传感 PT100 2024-05-16

科技界见证新一代电源测试解决方案诞生：ITECH 艾德克斯IT2700多通道源载模组系统隆重发布

近日，科技界迎来了一款创新的电源测试解决方案 —— IT2700多通道源载模组系统。这款设备由领先的电源测试技术企业精心研发，旨在为工程师提供更灵活、高效的测试选项，推动电力电子和电池技术的发展

艾德克斯 2024-05-11

新能源安全之路：敏源传感温度芯片助力充电桩实现智能温度监控

概述随着新能源汽车市场的迅速扩大，充电桩的建设也在全国范围内蓬勃发展。国家和政府也出台了一系列鼓励政策，促进充电基础设施建设，以满足日益增长的车辆充电需求。充电桩的普及不仅使得新能源汽车的充电更加便捷，也为环保事业的推进做出了积极贡献

新能源温度芯片智能温度监控充电桩 2024-05-10

聚焦用户需求——敏源传感推出业界领先的高频差分电容传感SoC芯片MCP61

电容传感器技术，以其高精度和低功耗的特性，已成为诸多高科技领域精密工程项目的首选。该技术适合应用于各种对测量精度有极高需求的场景之中。电容传感器的核心优势在于传感器可以在不接触被测物的条件下进行操作，这使得它们在测量脆弱或易损物体时尤为有价值，比如在工业类或医疗类应用中

高频差分电容传感器电容传感器电容传感芯片 2024-05-06

探访2024慕尼黑上海电子展无源器件展区，开启科技创新之门！

随着近年来我国消费电子、汽车电子、工业电子等多个行业的高速发展以及新能源汽车、物联网、新能源等新兴领域的兴起，我国电子元器件的需求不断增加，带动行业迅速发展。亚太地区集成无源器件市场预测将在2020年至2026年见证超过10％的增长率，这得益于政府对该地区半导体制造业扩张的支持

4慕尼黑上海电子展 2024-04-29

光刻机巨头阿斯麦业绩爆雷股价大跌：网友支招7nm以下EUV给中国厂商供货

快科技4月18日消息，光刻机巨头阿斯麦（ASML）业绩爆雷，这也导致公司股价大幅下挫。阿斯麦发布的2024年第一季度财报。财报数据显示，公司今年一季度营收端大幅下滑，实现营收52.9亿欧元，同比下降21.6%，不及市场预期：公司一季度净利润为12.24亿欧元，同比下滑37.4%

光刻机阿斯麦 2024-04-18

台积电左右逢源：从中、美、日、德拿到补贴1180亿

当一家企业变成全球的龙头，技术全球最先进，没有替代者时，就相当于它已经左右着某一个产业链了，那么这家企业，必然会在全球受到欢迎，全球的国家都想邀请它去当地建厂。这样的企业，全球并不多，但台积电肯定是一个，因为它芯片制造技术全球第一，同时技术门槛非常高，其它企业学不来

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-03-11

美欧日韩芯片联盟，出现裂缝，EUV光刻机时代，要过去了？

众所周知，全球最牛的光刻机厂商，是荷兰的ASML，它垄断了全球90%的光刻机市场，EUV光刻机市场更是高达100%，只有它能够制造。但ASML表面上看是荷兰的，实际上是被美国控制的，ASML是美国意志的产物，没有美国在背后推动，支持，ASML不可能有如此地位

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-03-10

新路线出现：EUV光刻机后，是BEUV技术，我们赶紧冲！

众所周知，过去几十年以来，芯片制造工艺，主要是光刻工艺。利用光线，将芯片电路图，投影到硅晶圆片上，中间最核心的设备，就是光刻机。同时光刻技术，就直接定义了芯片工艺，直接决定芯片的制程水平和性能水平

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-03-07

Vishay推出的新款浪涌限流PTC热敏电阻可提高有源充放电电路性能

美国 宾夕法尼亚 MALVERN、中国上海

Vishay 2024-03-06

今年5nm，2026年2nm，EUV光刻机搅局者，终于要量产了

目前在芯片制造领域，光刻工艺是几乎所有晶圆厂，都采用的工艺，特别是在相对先进一点的制程中，全部是光刻工艺。而光刻工艺下，光刻机、刻蚀机等必不可少，其中光刻机更是重中之重，因为其门槛高，研发难度，供应链复杂，是所有芯片制造设备中，价格最高的设备

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-03-04

美、日、韩、台、荷的芯片纽带断了？EUV光刻机，进入死胡同？

不管大家承认不承认，事实上还真是如此，美国、日本、中国台湾、荷兰、韩国这5个地区，如果联手起来，就真正垄断了全球的芯片产业。美国掌控EDA、IP、半导体设备这些上游产业。日本垄断的是半导体设备、半导体材料

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-02-28

ASML的“末日狂欢”：EUV光刻机，难有下一代，未来没了

2023年，是ASML狂欢的一年，这一年卖出了276亿欧元的光刻机，同比增长30%，而净利润为78亿欧元，同比增长43%，毛利率高达51.3%。 2023年这一年，ASML卖出了53台EUV光刻机，

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-02-21

未来芯片巅峰！ASML露面的High NA EUV光刻机，为2纳米技术揭开神秘面纱

（本篇文篇章共715字，阅读时间约1分钟）近日荷兰光刻机巨头ASML首次向媒体展示了最新一代的High NA EUV光刻机，这一机器被视为全球最先进的光刻技术，能够制造2纳米以下的芯片

ASML EUV光刻机 2024-02-18

台积电计划在2030年采用High-NA EUV光刻机完成1nm制程芯片

（本篇文篇章共935字，阅读时间约1分钟）近期，台积电发布了其在1nm制程芯片领域的产品规划，计划在2030年前完成1nm级A10工艺的开发。这一计划是在ASML交付给英特尔业

台积电 EUV光刻机 2024-02-18

ASML最新EUV光刻机：27亿元，150吨重，250人要安装180天

众所周知，目前全球仅ASML一家能够生产EUV光刻机。目前ASML对外出货的光刻机，其实均是数值孔径NA=0.33的光刻机，这种称之为低数值孔径的光刻机，一般用于3nm-7nm芯片的光刻。而当

芯片台积电华为 ASML 光刻机 intel 2024-02-18

ASML浸润式DUV光刻，EUV光刻机，正式断供！

众所周知，目前的芯片制造，基本上是基于光刻工艺，所以必须用到光刻机。而光刻机又芯片工艺制程对应，如下力所示，比如G线、i线对应的是350nm及以上的芯片工艺，而KrF对应的是350-130nm

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-01-02

14GB/s读取国产闪存大发神威！忆恒创源PBlaze7 7946 6.4TB评测：企业级PCIe 5.0 SSD标杆

一、前言：面向高性能业务应用的国产企业级PCIe 5.0 SSD 忆恒创源（Memblaze）是国内一家非常有名的企业级PCIe SSD厂商，因其品牌标识的缘故，很多玩家也亲切的称之为“小海豚”，深受不少发烧友的喜爱

忆恒创源 PBlaze7 2023-12-22

一台近30亿元！ASML明年生产10台全新EUV光刻机：Intel独吞6台

集邦咨询的报告显示，ASML阿斯麦将在2024年生产最多10台新一代高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机，其中Intel就定了多达6台。同时，三星星也在积极角逐新光刻机，台积电感觉压力巨大。NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率，以及最高能达到的工艺节点

ASML EUV光刻机 2023-12-22

怎么办？EUV光刻机前进的3个方向，已全部是绝路

众所周知，随着芯片工艺的不断前进，光刻机也是不断的改进，越来越先进，越来越精密。比如普通DUV光刻机，只能生产最低65nm的芯片，而浸润式DUV光刻机，则能生产最低7nm芯片，EUV光刻机则能生产5nm及以下的芯片

芯片光刻机 ASML EUV 2023-12-21

CEO退休，ASML的EUV光刻机，已经走向绝路了

众所周知，目前的芯片制造工艺中，光刻是必不可少的步骤，所以光刻机也是至关重要的一种设备。光刻机的类型与工艺制程，光源波长，是一一对应，比如干式DUV光刻机，采用193nm波长深紫外线光源，制造13

光刻机 ASML 芯片台积电华为中芯国际 2023-12-20

风向变了，美国100亿美元建H-N EUV研发中心，再造台积电？

众所周知，目前全球最牛的芯片制造企业，必然是台积电。从技术上来看，台积电是唯二掌握3nm工艺的晶圆厂，另外一家是三星。但三星目前还没有真正推出3nm的芯片，所以台积电才是遥遥领先。从市场来看，台积电一家占了全球55%+的代工份额，7nm以下的芯片，台积电占了90%的份额

台积电芯片光刻机华为中芯国际 2023-12-15

蕊源科技实控人曾设资本局获利数亿元，交易标的承诺期满业绩变脸

《金证研》南方资本中心予沐/作者三石南江映蔚/风控近日，多家线上招聘机构纷纷举办集成电路专项招聘会，挂出大量岗位“招兵买马”。而此前，自去年二季度起，半导体行业已经历了连续六个季度的“降温”，截至2023年11月1日，已有151家半导体上市公司前三季度出现归母净利润下滑

蕊源科技集成电路 2023-12-09

价格只有EUV的10%，佳能销售5nm光刻机，但不卖给中国

众所周知，前段时间佳能正式在官网官宣，其旗下的NIL纳米压印光刻机生产设备 FPA-1200NZ2C出货了，而这个光刻机，与EUV光刻机不同，是绕开EUV的另外一种纳米压印技术，但是能够生产5nm芯片

ASML 佳能光刻机 NIL EUV 2023-11-07

2纳米无需EUV光刻机，ASML或面临灭顶之灾，难怪加紧对中国出货了

ASML曾表示全球5纳米以下的工艺必需它的EUV光刻机，谁也无法替代它的地位，然而如今却有厂商表示可以绕开EUV光刻机生产先进工艺，吓坏了ASML。在光刻机行业，除了ASML之

国产芯片光刻机 2023-11-01

蕙“智”兰“芯” 力拔头筹 - ITECH IT2800系列高精密源表荣获欧洲年度最佳测试测量产品奖

近日，欧洲权威电力电子行业媒体揭晓了各品类年度最佳产品的获奖榜单。艾德克斯ITECH IT2800系列高精密源表（SMU）在激烈角逐中捷报频传，荣获殊荣。在欧洲专业媒体举办的EIA （Electro

艾德克斯电力电子 2023-10-26

佳能5nm NIL光刻机告诉我们，绕过EUV，或许才是出路

近日，佳能出货5nm的芯片光刻机，震惊了整个网络。佳能官网发公告称，旗下最先进的新一代纳米压印（NIL）设备FPA-1200NZ2C正式出货。这种光刻机，可实现最小线宽14nm的图案化，相当于目前5nm逻辑芯片

ASML 光刻机 EUV 激光器蔡司芯片 2023-10-17

ASML真的慌！佳能绕开EUV，5nmNIL光刻机出货，可惜不卖给中国

众所周知，在芯片光刻机领域，有4大厂商，分别是ASML、佳能、尼康、上海微电子。其中ASML占了85%+的份额，佳能、尼康合计占了15%左右的份额，至于上海微电子，其实就是打酱油而已，份额接近于0%

ASML 佳能光刻机 NIL EUV 2023-10-16