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【洞察】纳米压印技术(NIL)在芯片制造领域应用前景较好 我国市场参与者众多
在芯片制造领域,与传统光刻技术相比,纳米压印技术具有生产效率高、制造成本低等优势,可用于制造DRAM、3D NAND等各种储存芯片。 纳米压印技术(NIL)指将模板上的微纳结构转移到待加工材料上的技术,属于新型微纳加工技术
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铠侠开发NIL半导体工艺:直奔5nm 无需EUV光刻机
在半导体工艺进入10nm节点之后,EUV工艺是少不了的,但是EUV光刻机价格高达10亿一台,而且产量有限,导致芯片生产成本很高。日本铠侠公司现在联合伙伴开发了新的工艺,可以不使用EUV光刻机,工艺直达5nm