IBM所制造的2nm工艺芯片,有哪些优势?
?近日,IBM宣布制造出全球首款以2nm工艺打造的半导体芯片。该芯片与目前主流的7nm工艺相比,在同等电力消耗下,性能提升45%、能耗降低75%。
中国IC设计细分领域龙头企业
IC设计通常就是人们所说的集成电路设计(Integrated circuit design, IC design),是指以集成电路、超大规模集成电路为目标的设计流程。IC设计涉及对电子器件(例如晶体管、电阻器、电容器等)、器件间互连线模型的建立
集成电路为高可靠性电源提供增强的保护和改进的安全特性
高可靠性系统的设计包括使用容错设计技术,选择合适的器件以满足预期环境条件,以及符合标准。本文主要讨论用于实现高可靠性电源的半导体解决方案,包括冗余、电路保护和远程系统管理。本文将重点说明半导体技术的改善和新的安全特性如何简化设计并增强器件可靠性
一文了解飞凌LS1028A开发板如何输出PWM方波?
最近,我收到了一个使用OK1028A-C输出pwm方波的需求.但是发现OK1028平台没有相关的说明,于是我着手写下了这篇文章。在查阅OK1028A-C原理图和《QorIQ LS1028A Reference Manual》后得知
一文详解瞬态抑制二极管的典型应用
TVS瞬态电压抑制二极管,是一种采用半导体工艺制成的单个PN 结或多个PN结集成的高效型电路保护器件。TVS内部芯片为半导体硅材料,具有很高的可靠性;响应速度快;低动态内阻;低钳位电压;电压精度高,击穿电压一般为±5%的偏差;封装多样化
PCB拼板后,为什么SMD焊接还要开托盘?
作者:王辉东如果用一句话来形容毛毛最近的人生,那就是一半是倒霉,一半是用来处理倒霉的。大清早刚到公司,就被办公室号称金毛狮王的谢主管叫进了办公室。“毛毛,你的项目,已经到了贴装环节,工厂说你这个板子要开托盘
一文了解TVS选型参数有哪些?
TVS瞬态抑制二极管(Transient Voltage Suppressors),用于保护易受干扰的电路免遭高浪涌、高电压、静电放电、电感负载开关、感应雷等冲击和威胁。在电路中,TVS往往是“隐藏”的,直到一个瞬态事件出现时,才起作用
一文了解数字芯片低功耗设计
· 前言 ·现如今便携式设备在人们的日常生活中已经越来越普及,手机,iPad,电脑已经成为了日常生活的必需品,就连我爷爷奶奶都已经开始使用智能手机视频聊天,刷抖音了。而便携式设备除了性能和大小以外,续航是我们最关心的问题
这个PCB为何报废的有点冤?
作者:王辉东毛毛右眼最近总是莫名的跳,跳的他心里乱糟糟,总觉得有不好的事情要发生,但是具体是哪件事呢,他自己也说不清。你说人每天都在追求快乐,然而现实却总是要给你一个响亮的耳光,你明明知道有耳光,但是你却不知道它什么时候抽过来,你要每天腆着脸,等着耳光的到来,你说这种日子这么煎熬,怎么能快乐起来呢
一文了解HIC失效模式和失效机理
混合集成电路(HIC)的主要失效模式包括厚薄布线基板及互连失效、元器件与布线基板焊接/黏结失效、内引线键合失效、基板与金属外壳焊接失效、气密封装失效和功率电路过热失效等。一、HIC的失效类型混合集成电路的失效,从产品结构上划分失效主要分为两大类:组装、封装互连结构失效、内装元器件失效
技术文章:STM32芯片超低功耗设计思路
对于给定的制造工艺和晶片区域,微控制器的功耗主要取决于两个因素(动态可控):电压和频率。ST公司L系列超低功耗芯片为130nm超低泄漏工艺,在超低功耗所做的设计思路如下:1. 围绕Cortex-M3内核构建
PCB漏背钻后有那些补救措施?
作者:王辉东世界上所有的伟大,都来自于两个字—试试。当钻机和锣机返背钻失败后,肖工和雷豹火热的内心跌入了冰点,看不到出路和希望。突然有人提议说去激光车间去试试,在这一刻他们又燃起了希望之火,于是一群人浩浩荡荡杀到了激光车间
一文了解数字IC设计流程
一颗芯片从无到有,从有需求到最终应用,经历的是一个漫长的过程,作为人类科技巅峰之一的芯片,凝聚了人们的智慧,而芯片产业链也是极其复杂的,在此,我大致把它归为四个部分(市场需求--芯片设计--芯片制造--测试封装)
好的内存条插哪个槽位都好吗?
作者:黄刚如何证明一条内存条的PCB设计是好的呢?大家想的没错!可以拿一块现成通用的CPU主板来搭配验证。那如果主板上有的槽位验证通过,有的槽位不满足要求呢,这到底算谁的问题?的确是这样,随着近年来国产化的需求越来越大
什么是晶圆的良率呢?如何把控?
今天查阅了一下晶圆良率的控制,晶圆的成本和能否量产最终还是要看良率。晶圆的良率十分关键,研发期间,我们关注芯片的性能,但是量产阶段就必须看良率,有时候为了良率也要减掉性能。那么什么是晶圆的良率呢?比如上图,一个晶圆,通过芯片最好测试,合格的芯片/总芯片数===就是该晶圆的良率
芯片光刻时,为何出现光刻效果不好?
光刻是半导体工艺中很关键的一环,比如热门的几纳米工艺就是以光刻的分辨率而定。光刻成为IC工艺中卡脖子的一环,牵涉到精度更高的光刻机设备,因此也有现在的ASML称霸一时。但是普通芯片其实也用不到这么高的精度,几百纳米的工艺能力也是可以,因为不需要设计那么小的芯片,不需要那么小的尺寸
拓扑结构介绍及其种类
文 | 周伟 一博科技高速先生团队队员拓扑结构一词起源于计算机网络,是指网络中各个站点相互连接的形式,同时也是用来反映网络中各实体的结构关系,是建设计算机网络的第一步,也是实现各种网络协议的基础,它对网络的性能,系统的可靠性与通信费用都有重大影响
技术升级:EUV单次曝光能力提升至24nm节距
本周在SPIE高级光刻会议上,世界领先的纳米电子和数字技术研究与创新中心IEMC与世界领先的半导体光刻设备制造商ASML宣布了一项合作成果。在印刷24nm节距线方面取得突破,该节距对应于3nm节点中关键后段金属层节距
结合仿真分析开环输出阻抗的求解方式
真实放大器内部存在开环输出阻抗,它会在滤波器、容性负载驱动等应用电路中,影响电路性能或者稳定性。数据手册中多提供闭环输出阻抗,本篇将结合仿真,分析开环输出阻抗的求解方式。1 开环输出阻抗与闭环输出电阻区别放大器的输出阻抗包括开环输出阻抗Zo与闭环输出阻抗Zout
FPGA杂记:安路TD中chipwatcher工具的使用和注意事项
一、什么是chipwatcher在编程开发过程的调试阶段,可以借助一些编译环境集成的工具帮助我们更好地定位问题。当我们完成一份工程代码但是观测不到我们想要的结果时,我们需要进一步确认是哪部分的代码出现了偏差导致得不到我们想要的结果
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培养“新工科”人才,安徽工程大学与天马微电子签订战略合作协议
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关于分行数字化转型工作的几点思考
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