单面胶
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【洞察】离子束光刻胶（IBL光刻胶）主要用于离子束光刻技术中 我国市场空间有望扩展
未来随着离子束光刻技术不断进步，离子束光刻胶行业发展态势将持续向好。 离子束光刻胶又称IBL光刻胶，指专用于离子束光刻工艺的光刻胶。离子束光刻胶具有化学稳定性好、分辨率高、耐辐射、热稳定性好等优势，在纳米压印技术、纳米科学研究、微电子制造以及生物医学领域拥有广阔应用前景
离子束光刻胶 2024-06-06 -
光刻胶的主要技术参数
1）分辨率（resolution）。区别硅片表面相邻图形特征的能力。一般用关键尺寸（CD，Critical Dimension）来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小，光刻胶的分辨率越好。 2）对比度（Contrast）
光刻胶 2024-06-04 -
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1000W大功率半灌胶AC/DC机壳电源 ——LMF1000-23BxxUH系列
市面上的大功率机壳质量良莠不齐，工程师面对严苛工况难以选型。为此，金升阳升级平台，推出千瓦级半灌胶机壳开关电源--LMF1000-23BXXUH系列，适用于应用环境相对恶劣的工业及户外等场合。该系列具有高效率（96%）、宽工作温度范围等优势，是一款高效率、高可靠的优质电源产品
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进入14nm工艺，国产光刻胶大突破，减少对日本的依赖
目前的芯片制造工艺，均是光刻工艺，即通过光学--化学反应原理，将电路图传递到硅晶圆上，形成有效的电路图形。 而光刻工艺过程中，除了光刻机这种设备之外，还有一种化学材料必不可少，那就是光刻胶，它是光刻工艺中最核心的耗材，其性能决定着光刻质量
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光刻胶国产率不足5%，为何不能买日本的光刻胶，分析复制？
众所周知，目前芯片制造的工艺是光刻法，而光刻法之下，光刻胶是非常重要的材料。因为所有的硅晶圆片上，都要涂上光刻胶，才能进行光刻，没有光刻胶，一切都是空谈。 光刻胶目前对应芯片工艺，也分为g线、i线、KrF、ArF、EUV这么5种
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中国从日本进口的光刻胶，占比超过50%
近日，海关公布了感光化学品（主要指光刻胶）的相关进口数据。 数据显示，2023年1-6月份，我们从日本进口的感光化学品金额为5.47亿美元，同比下降9.1%，占所有感光化学品比例约为51%。 而在
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KrF光刻胶，又一公司取得突破性进展！
近日，八亿时空宣布在KrF光刻胶方面取得了重大突破，已成功实现KrF光刻胶用PHS树脂及其衍生物百公斤级别的中试量产，并取得了国内部分光刻胶生产企业窄分布树脂订单，材料性能指标达到国际先进水平，成为国内少数能够大批量制造和供应这种关键材料的企业之一
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【聚焦】负性光刻胶可应用于显示器件、半导体等领域 我国行业发展面临挑战
近年来，受下游应用开发力度不足等因素限制，我国聚异戊二烯装置开工率较低，导致需求高度依赖进口。原材料供应不足为负性光刻胶行业发展带来一定挑战。 光刻胶种类丰富，按照化学反应机理和显影原理不同，可分为正性光刻胶和负性光刻胶两类
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重磅！1万亿日元收购光刻胶巨头！
又一重磅收购来袭！6月24日，据报道，日本政府支持的日本投资公司（JIC）正商谈以1万亿日元（约合人民币500亿元）收购用于半导体生产的光刻胶生产公司JSR（日本合成橡胶公司）。报道称，据相关人士透露，产业革新投资机构计划在年内进行公开收购（TOB）JSR的股权
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日韩“冰释前嫌”，光刻胶供应链进入新牌局
前言： 最近，日本宣布解除对韩国芯片材料的出口限制。这标志着，日韩芯片争端历时4年落下帷幕。 日本取消对韩国包括光刻胶等三种关键材料的出口限制，意味着此前因劳工分歧而[互删好友]的日韩两国将冰释前嫌，恢复合作
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光刻胶为电子元件加工关键材料，我国光刻胶国产化已技术突破
日前，东海证券发布研报指出，光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光线较为敏感的有机混合物，可利用光化学反应将光刻系统中经过衍射、滤波之后的光信息转化为化学能量，迚而将掩模版上的图形转移到基底上。光刻工艺是精密电子元件加工流程中的重要步骤，光刻胶是电子元件加工过程中的关键材料
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“断供”传闻不断：光刻胶后是光刻机，这些企业这样说
3月9日，A股光刻胶板块继续维持强势，其中容大感光连续两个交易日“20CM”涨停。光刻胶板块的强势，与此前日本光刻胶企业“断供”的传闻有关。而近日，ASML在DUV光刻机上也对中国实施了新的出口管制，一时间中美芯片博弈又再硝烟弥漫
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南大光电：公司ArF光刻胶产已通过两家客户认证
11月25日消息，有投资者向南大光电提问称，公司 ARF 光刻胶验证的怎么样啦，什么时候会实现量产？对此，南大光电回应，公司 ArF 光刻胶产品分别通过一家存储芯片制造企业和一家逻辑芯片制造企业的验证，目前多款产品正在多家客户同时进行认证，后续验证进展情况请关注公司相关信息披露
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芯片供应链国产率：光刻机1%，EDA 5%，涂胶显影机5%，光刻胶7%
众所周知，在芯片产业链上，其实全球是分工协作，充分发挥着全球一体化作用的，比如EDA看美国，半导体材料看日本，光刻机看ASML……但美国却在其中，不断的使用禁令，割裂芯片供应链，让芯片产业实现不了全球
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光刻胶国产化，芯片制造里的关键一役
解码Decode ·袁喜乐2021年2月，位于日本东北地区最南部的福岛县发生了一场7．3级地震。这场地震虽没有像2011年那场9级地震一样导致核电厂泄漏，但却造成了设立在福岛县周边半导体工厂的数日停产
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重磅！上海新阳KrF光刻胶产品已被国内主流芯片公司采购
5月24日消息，日前上海新阳在业绩说明会上表示，公司光刻胶ArF、ArF－i研发进展顺利，已经形成两个系列试验产品，样品已经进入客户端进行测试。由于测试耗时比较长，近期不会有销售的发生，但是产品总体技术的指标还都比较不错，我们现在对这方面也比较有信心
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加码光刻胶！彤程新材拟1.97亿元收购北旭电子33%股权
5月18日，彤程新材发布公告称，公司全资子公司上海彤程电子材料有限公司（下称“彤程电子”）拟以1．97亿元向上海峥方化工有限公司（下称“峥方化工”）收购其持有的北京北旭电子材料有限公司（下称“北旭电子”）33．0050％股权
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国产光刻胶大进步：90-28nm已支持存储芯片、逻辑芯片
众所周知，在芯片的制造过程中，需要的设备、材料非常多。其中像光刻机、光刻胶都是当前严重卡脖子的产品。拿光刻胶来说，分为5种，分别是g线、i线、KrF、ArF、EUV。其中g线、i线主要用于250nm以上工艺，国内的自给率约为20％
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光刻胶客户壁垒：壁垒极高，认证周期长
昨天晚上南大光电公布自己的2021年年报，虽然增长速度还算过得去，但是对光刻胶的进度可是让大户们很不爽。股价也是被摁在地下摩擦了很久。其实这也不能怨南大，一个新的光刻胶想要进入一个成熟的新品产线，首先
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光刻胶：研究框架（200页）
本文来自方正证券研究所2022年1月25日发布的报告《光刻胶研究框架2．0：研究上游单体、树脂、光酸、光引发剂》，欲了解具体内容，请阅读报告原文，陈杭S1220519110008本文是《光刻胶：研究框
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突破芯片“卡脖子”，国产光刻胶已迈出第一步
2019年，日本、韩国因历史遗留问题爆发了争端。为了争取更多谈判筹码，日本向韩国半导体产业“痛下杀手”。当年7月，日本方面宣布限制向韩国出口包括含氟聚酰亚胺、光刻胶以及高纯度氟化氢在内的三项重要半导体及OLED面板原材料
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晶瑞电材：已经开始研发高端ArF光刻胶
12月16日消息，昨天，晶瑞电材发布投资者关系活动记录表，并表示其KrF（248）光刻胶产品已完成中试，建成了中试示范线，已进入客户测试阶段，并已经开始着手建设 KrF 光刻胶的量产化生产线。另外，经
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传晶瑞电材购入KrF光刻机，国产光刻胶迎来重大突破
12月9日消息，有投资者向晶瑞电材提问，晶瑞电材是否拥有KrF光刻机？是否具备批量生产KrF光刻胶的条件？对此，晶瑞电材回应，公司近期已购得KrF光刻机一台，可用于KrF光刻胶的曝光测试，同时公司KrF光刻胶量产化生产线正在积极建设中
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2021年中国光刻胶行业上市公司全方位对比
光刻胶行业主要上市公司:目前光刻胶行业的上市公司主要有,上游原料:圣泉集团(605589)、强力新材(300429)、久日新材(688199)、扬帆新材(300637)、万润股份(002643)、瑞联
光刻胶 2021-10-08 -
2021年中国PCB光刻胶行业市场现状及发展前景分析
中国光刻胶行业主要上市公司:飞凯材料(300398)、容大感光(300576)、广信材料(300537)、上海新阳(300236)、永太科技(002326)、雅克科技(002409)、江化微(603078)等
PCB光刻胶 2021-09-30 -
2021年全球半导体光刻胶行业市场规模与竞争格局分析
中国光刻胶行业主要上市公司：飞凯材料（300398）、容大感光（300576）、广信材料（300537）、上海新阳（300236）、永太科技（002326）、雅克科技（002409）、江化微（603078）等
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