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中国从日本进口的光刻胶,占比超过50%

近日,海关公布了感光化学品(主要指光刻胶)的相关进口数据。

数据显示,2023年1-6月份,我们从日本进口的感光化学品金额为5.47亿美元,同比下降9.1%,占所有感光化学品比例约为51%。

而在2022年的时候,我国感光化学品进口总额23.50亿美元,从日本进口额12.05亿美元,占比51.3%。

也就是说,最近一年多以来,中国的光刻胶进口中,有一半多来自于日本,中国高度依赖日本的光刻胶。

事实上,不只是这一年多以来,统计最近10年以来,日本光刻胶进口占比,一直就超过50%,日本一直是我国感光化学品进口的第一大来源国。

不仅中国高度依赖日本的光刻胶,可以说全球都依赖日本的光刻胶,包括美国、韩国、欧洲等。

光刻胶是芯片光刻工艺中最主要的、最关键的材料。

按照种类可以分为G线光刻胶(436nm)、I线光刻胶(365nm)、KrF光刻胶(248nm)、ArF光刻胶(193nm)、EUV光刻胶(13.5nm)这么几种。

而这几种光刻胶对应的芯片工艺是>0.35um、>0.35um、0.15-0.25um、7-130nm、<7nm。

很明显,光刻胶与光刻机一样,是一一对应的,其中像ArF光刻胶,也分为两种,干法主要用于130-65nm工艺,浸没式主要用于65-7nm工艺。

而目前全球光刻胶市场主要被日本和美国公司垄断,日企全球市占率约80%,处于绝对领先地位。

而从具体的光刻胶类型来看,在g线/i线、KrF、ArF、EUV光刻胶市场中,日本企业的市占率分别为61%、80%、93%,100%。

而中国这4种光刻胶的自给率约为30%、5%、1%、0%,可见基本上都要进口,只有最为落后的g线/i线才表现不错,而越先进的光刻胶,自给率就越低,EUV这种直接无法制造。

对此,不知道大家怎么看?在芯片制造的过程中,光刻机这样的设备不可缺少,而光刻胶这种材料,也是不可缺少。

所以,我们在关注光刻机等各种半导体设备时,也同样应该多关注光刻胶这种材料,只有设备、材料全突破了,才能真正不被卡脖子。

       原文标题 : 中国从日本进口的光刻胶,占比超过50%

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