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上海新阳采购的ASML光刻机已顺利交付

近日,上海新阳半导体发布公告,公布了购买ASML-1400光刻机的最新进展,目前已经进入北方集成电路技术创新中心有限公司的场地。

据悉,上海新阳半导体因193nmArF干法光刻胶的项目研发,购买了ASML-1400光刻机等核心设备。之前有消息称,设备将于2020年底到达国内,但是由于运输和安装问题,并没有按时到达。

之后,上海新阳半导体与北方集成电路技术创新中心积极沟通下,目前已经到达北方集成电路现场,后续还会进行安装调试等相关工作。

上海新阳半导体表示,“采购的ASML干法光刻机设备顺利交付,对加快193nm ArF干法光刻胶产品开发进度有积极影响,有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力,加快落实公司发展战略,提高公司抗风险能力和可持续发展能力。”

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