新型光刻机专利曝光，上海微电子的技术储备如何？

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2021-10-26 11:47

近日，上海微电子举行新产品发布会，该公司推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。据悉，上微已与多家客户达成新一代先进封装光刻机销售协议，首台将于年内交付。

上海微电子早在2018年就申请了一项名为“一种光刻投影物镜及光刻机”的发明专利（申请号： 201811648523．1）。据悉，该专利申请人为上海微电子装备（集团）股份有限公司。

光学光刻是一种用光将掩模图案投影复制的技术，集成电路就是由投影曝光装置制成的，将具有不同掩模图案的图形成像至基底上，制造集成电路、薄膜磁头、液晶显示板，或微机电等一系列结构。过去数十年曝光设备技术水平不断发展，满足了更小线条尺寸，更大曝光面积，更高可靠性及产率，以及更低成本的需求。然而现有的光刻投影物镜依旧存在诸如数值孔径较小、分辨率低、适用波段窄、数值孔径不可变和非球面透镜加工制造成本高等问题。

根据智慧芽数据显示，截至最新，上海微电子及其关联公司在126个国家／地区中，共有3541件专利申请，从专利授权量上来看，自2003年开始，上海微电子所有专利中，头15年每年专利授权量占该年次专利授权量比例都非常高，几乎占比能达到90％，但近几年该公司的专利授权比例呈现下降趋势（详见图1）。智慧芽咨询专家表示，授权发明专利量在专利申请总量中的占比高低反映了其创新程度高低。此外，根据智慧芽的数据库可知，该公司的上述专利申请技术构成如下，该公司有48．01％的专利技术都是和“图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备”有关（详见图2）。

新型光刻机专利曝光，上海微电子的技术储备如何？