长江存储:全球化已死!设备不让买不让用 回购才公平
随着美国对中国半导体行业制裁的步步收紧,越来越多的实体被加入“黑名单”,包括在闪存存储领域搅动了整个行业的长江存储。
长江存储董事长陈南翔在最新的一次演讲中指出,过去50年半导体产业蓬勃发展,全球化合作功不可没,原本预计2030年能达到1万亿美元规模,现在看很难说了。
陈南翔个人非常赞同台积电创始人张忠谋“全球化已死”的说法,但也不反对“再全球化”的观点,并提出,企业在进行中长期发展规划时,是否具备足够的系统性、一致性、持续性,是衡量“在全球化”是否能达成的重要指标。
陈南翔指出,全球化市场对促进产业发展很重要,比如DRAM内存、NAND闪存、RISC架构、无线通信技术等等,这些发明和创新不属于任何一个企业或国家,而是企业或国家对全球产业链价值的贡献。
目前,全球化供应链的直接参与者有25个国家,间接参与的有23个国家,相当接近50个国家参与全球化体系,形成“我中有你,你中有我”。
在演讲的最后,他还呼吁:“请建设诚信和公平原则。假设长江存储依法合规买的设备拿不到或是无法使用,可以设一个时间内,把设备在新的条件下回购,这样才公平。”
还有消息称,ASML旗下所有的DUV光刻机,出口都要被经过认可才可以。
对于这样的说法,也是引起了热议,不过ASML给出了回应。
ASML表示,出口管制条例只涉及部分最新DUV型号,包括TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统。EUV光刻机在此前已经受到限制,其他系统的发运未受管控。
此外,ASML还表示,上述规定是在9月1日才生效,而他们已经提交了许可申请。
所以,在上述时间之前发货的DUV光刻机或不受影响,此前业内猜测的TWINSCAN NXT:1980Di也不受影响。
稍早些时候,比利时微电子研究中心 (IMEC) 、阿斯麦 (ASML) 共同宣布,双方将在开发先进高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻试验线的下一阶段加强合作。
按照ASML的说法,2025年开始,客户就能从数值孔径为0.33传统EUV多重图案化,切换到数值孔径为0.55 High-NA EUV单一图案化,降低制程成本,提高产量。
Fouquet表示,EUV光源输出功率一直稳步增加,ASML传统型号EUV光源输出功率为250W~300W,最新型号3600D增加到350W,现在研究层面已做到600W,800W指日可待。
到2030年,使用High NA EUV的多重图案将与单一图案一起完成,以提高产量,并降低制程成本,需要更高数值孔径的EUV曝光(NA=0.75)。
DUV、ArF、EUV和High-NA EUV技术形成图案的每个晶体管成本都不断变化,考量到新技术价格一定高于EUV每套3亿美元,High-NA EUV价格将非常可观,但仍取决于客户要求和开发成本。
在这之前,光刻机大厂ASML高管对外表示,半导体业只有通力合作,建立完全自主的产业链,即使并非不可能也会极其困难。
原文标题 : 长江存储:全球化已死!设备不让买不让用 回购才公平
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