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本文由半导体产业纵横（ID：ICVIEWS）综合采用高NA EUV光刻机对于台积电发展2nm以下工艺至关重要。据悉，台积电预计将于今年年底从ASML接收首批全球先进的芯片制造设备——高数值孔径极紫外（High NA EUV）光刻机

台积电2nm High-NA EUV光刻机 2024-11-25

快科技6月4日消息，据媒体报道，比利时微电子研究中心（IMEC）与阿斯麦（ASML）宣布在荷兰费尔德霍芬（Veldhoven）开设联合High-NA EUV光刻实验室（High NA EUV Lithography Lab）

阿斯麦 IMEC 2024-06-05

（本篇文篇章共715字，阅读时间约1分钟）近日荷兰光刻机巨头ASML首次向媒体展示了最新一代的High NA EUV光刻机，这一机器被视为全球最先进的光刻技术，能够制造2纳米以下的芯片

ASML EUV光刻机 2024-02-18

（本篇文篇章共935字，阅读时间约1分钟）近期，台积电发布了其在1nm制程芯片领域的产品规划，计划在2030年前完成1nm级A10工艺的开发。这一计划是在ASML交付给英特尔业

台积电 EUV光刻机 2024-02-18

9月27日消息,ASML首席技术官Martin van den Brink在接受采访时表示,目前公司正有序推行其路线图,在EUV之后是High-NA EUV技术。值得注意的是,Martin van den Brink提到,ASML计划在明年某个时间点向客户交付首台High-NA EUV光刻机

ASML 光刻机 2022-09-30

内容提要· High－Speed Ethernet Controller （MAC／PCS／FEC） IP 系列与 Cadence SerDes PHY IP 联合实现高达 800G 的完整以太网子系

ip 以太网 5G IEEE SoC 2022-04-13

1月19日，ASML宣布2022年一季度，其第二代High－NA光刻机TWINSCAN EXE：5200获得了首个订单，第二代High－NA光刻机被用于2NM制程芯片制造，有望在2024年实现交付。自

Intel 芯片代工 IDM 2022-01-21

作者: Unmesh Joshi译者: java达人预写日志中的索引,显示最近一次成功的复制。问题服务器崩溃并重新启动后,可使用“Write-Ahead Log”模式恢复状态。但是,如果服务器发生故障,Write-Ahead Log不足以提供可用性

服务器分布式系统 High-Water Mark 2020-12-13