三星S21的正面照曝光，延续双曲面＋居中挖孔的设计方案
2020-10-10 08:53
IT168
关注
近期，网上曝光了大量关于三星Galaxy S21系列的相关信息，讨论最多的话题自然是屏幕。根据10月9号最新爆料消息，知名爆料人Mayur Gadhiya曝光了三星S21的正面照，发现其依旧延续了双曲面＋居中挖孔的设计方案。
据Mayur Gadhiya表示，此次曝光的产品为三星Galaxy S21的标准版，并非S21＋或S21 Ultra，机身正面与上一代S20非常相似，同样为顶部居中挖孔全面屏方案，并且为双曲面设计，无缘屏下摄像头也并未改为直屏。
同时，三星Galaxy S21还将可能会首发高通骁龙875处理器，高通方面已经宣布将在今年12月1号在骁龙技术峰会上亮相该产品，部分市场的机型依旧会继续使用三星自家的Exynos 2100处理器，与骁龙875一般同样采用5nm工艺制程，性能方面也是相当强悍。
此前还有消息称，三星Galaxy S21将会配备Note系列才有的S Pen手写笔，并且支持其相关的操控使用功能，不过目前尚未得到进一步的证实。仅目前爆料的内容来看，三星Galaxy S21整体的变化升级并不会太大，还是希望三星能带给我们更多的惊喜吧。
分享
声明：
本文由入驻维科号的作者撰写，观点仅代表作者本人，不代表OFweek立场。如有侵权或其他问题，请联系举报。
图片新闻
发表评论
请输入评论内容...
请输入评论/评论长度6~500个字
暂无评论
暂无评论