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三星S21的正面照曝光,延续双曲面+居中挖孔的设计方案

2020-10-10 08:53
IT168
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近期,网上曝光了大量关于三星Galaxy S21系列的相关信息,讨论最多的话题自然是屏幕。根据10月9号最新爆料消息,知名爆料人Mayur Gadhiya曝光了三星S21的正面照,发现其依旧延续了双曲面+居中挖孔的设计方案。

据Mayur Gadhiya表示,此次曝光的产品为三星Galaxy S21的标准版,并非S21+或S21 Ultra,机身正面与上一代S20非常相似,同样为顶部居中挖孔全面屏方案,并且为双曲面设计,无缘屏下摄像头也并未改为直屏。

同时,三星Galaxy S21还将可能会首发高通骁龙875处理器,高通方面已经宣布将在今年12月1号在骁龙技术峰会上亮相该产品,部分市场的机型依旧会继续使用三星自家的Exynos 2100处理器,与骁龙875一般同样采用5nm工艺制程,性能方面也是相当强悍。

此前还有消息称,三星Galaxy S21将会配备Note系列才有的S Pen手写笔,并且支持其相关的操控使用功能,不过目前尚未得到进一步的证实。仅目前爆料的内容来看,三星Galaxy S21整体的变化升级并不会太大,还是希望三星能带给我们更多的惊喜吧。

声明: 本文由入驻维科号的作者撰写,观点仅代表作者本人,不代表OFweek立场。如有侵权或其他问题,请联系举报。

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