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联电与美光宣布在全球范围内达成和解协议

近日,联电与美光宣布达成全球和解协议,双方将各自撤回向对方提出的诉讼。据消息人士透露,此次之所以双方达成和解,主要是联电私下将向美光一次支付一笔保密的和解金,未来双方将共创商业合作机会。

此外,联电发布公告称,公司已与美光达成庭外和解协议,和解金将不会对公司业绩产生重大影响。

公开资料显示,联电与美光的诉讼案源自2016年5月,联电与福建晋华签署合作协议显示,联电与晋华共同开发两代动态随机存取记忆体(DRAM)制程。协议中所开发的DRAM制程并非最新技术,而是与2012年已用于量产技术相似的旧技术。

但其中牵涉到三位参与DRAM合作案的台湾美光前员工,因违反与联电签订的雇佣合约与声明书携带前公司信息进入联电并于工作中参考,又将机密资料转移给晋华,美光因此在台湾起诉联电,同年又在美国对联电、晋华提起诉讼,随后美国司法部开始调查。

2018年11月,美国司法部正式宣布起诉福建晋华、台湾联电及3名台湾人进行商业经济盗窃活动、窃取美光营业秘密。当年的11月份,美国联邦调查局还在媒体发文明确表示美国半导体领先技术的丢失会对国家安全造成威胁。据悉,当时联电雇用的三位员工,其中的一名陈正坤原为联电资深副总经理,于2016年借调至福建晋华担任总经理; 另两名遭起诉的台湾工程师曾在台美光工厂工作,后来携带美光的机密资讯跳槽联电。

去年10月28日,联电已承认侵害营业秘密并与司法部达成和解,将支付6000万美元罚金予美国政府。联电认罪,并表示将在3年内的自主管理缓刑期内配合进一步的调查。

联电当时指出,和解协议中,美国司法部同意撤销原本对联电的指控,包括共谋实施经济盗窃活动、共谋窃取多项美光的营业秘密和专利有关的指控、以及范围可能从4亿美元到87亿5000万美元的损害赔偿及罚金等。联电承认侵害一项营业秘密,同意支付美国政府罚金,也会在3年的自主管理缓刑期内与美国司法部合作后续调查。

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