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美国的背信弃义让ASML彻底反水,积极寻求向中国出货

2022-12-05 08:56
柏铭007
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芯片制造行业两大巨头台积电和ASML近期的态度迥异,台积电彻底投向了美国,而ASML近期却是频频向美国喊话并向中国释放善意,最近还向中国交付了一台光刻机,导致ASML态度发生变化的原因在于美国的背信弃义。

美国的背信弃义让ASML彻底反水,积极寻求向中国出货

台积电一反之前对赴美设厂的暧昧态度,创始人张忠谋表示不仅要加快美国5nm工厂的量产进程,还将在美国建设3nm工厂,甚至包机10架将中国台湾的技术人员和设备转移至美国工厂,可以说台积电已彻底投向了美国。

ASML的态度却是与台积电迥异,ASML已拒绝了美国要求对中国禁售DUV光刻机的要求,ASML认为中国已是全球芯片供应链的重要环节,禁止对中国出售DUV光刻机不会阻碍中国芯片的发展,中国迟早能造出先进的光刻机,这与ASML此前表态指即使给中国提供图纸,中国也无法制造光刻机形成鲜明对比。

近日ASML更是给中国一家芯片企业交付了一台DUV光刻机,显示出ASML积极改善与中国的关系。ASML和它所在的荷兰都提醒美国,指ASML是一家欧洲企业,美国不应干涉ASML的销售,ASML应该有只有出货的权利。

ASML的态度发生变化,在于美国的背信弃义,美国要求ASML这不能干,那不能干,但是美国芯片企业却不给ASML活路,美光已研发绕开EUV光刻机的1β工艺,美国Zyvex公司研发的电子束光刻机更是可能导致ASML的EUV光刻机可能变成垃圾,如此情况下ASML当然希望选择自己的发展道路。

美国的背信弃义让ASML彻底反水,积极寻求向中国出货

事实上中国芯片这两年的发展也让ASML担忧,中国虽然还没获得ASML的EUV光刻机,以至于研发7nm及更先进工艺面临困难,但是中国却并未因此止步,积极探索芯片工艺的新道路。

在汽车芯片方面,中芯国际研发了全球最先进的55nm BCD工艺;以现有的DUV光刻机,中国芯片制造企业正在研发接近7nm的工艺;中国又研发了芯粒技术可以提升芯片性能,预计可以将14nm、7nm芯片的性能分别提升至7nm、5nm;更让世界震惊的是中国在量子芯片、光子芯片方面的进展,显示出中国芯片绕开EUV光刻机并非没有机会。

目前台积电、Intel三星都没有大规模采购EUV光刻机的计划,中国市场已成为ASML的最后希望,ASML相当担忧中国一旦绕开EUV光刻机,那么ASML的未来将再没有希望;此时美国也没有给予ASML希望,ASML选择了向中国释放善意,近期ASML高管就呛声美国芯片行业应该加快研发速度而不是想着压制中国芯片来确保自己的竞争优势,美国媒体表示ASML这是要反水了。

ASML已确定未来三年倍增光科技的产能,EUV光刻机产能提升至90台,DUV光刻机提升至600台,如此大规模的增加产能,外媒普遍认为ASML是为中国市场准备的,毕竟需要大规模采购光刻机的只有中国市场了。

美国的背信弃义让ASML彻底反水,积极寻求向中国出货

事实上如今的美国芯片日子也已不好过,由于中国进口的芯片数量持续减少,今年前8个月进口的芯片减少了600亿颗,美国芯片企业AMDNVIDIA、Intel都出现业绩下滑,美国模拟芯片行业出现巨额库存而降价九成抛售,导致美国芯片拒绝台积电提价的要求,而台积电赴美设厂却导致成本上涨五成。

台积电的遭遇也让ASML思考,顺从美国未必会有好结果,现实的利益才是更重要的,基于这些现实利益考虑,ASML才逐渐表现出对美国强硬的态度,重新改善与中国的关系。

       原文标题 : 美国的背信弃义让ASML彻底反水,积极寻求向中国出货

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