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EUV光刻机不断突破?不能量产,都是纸上谈兵,没有用的

如果大家关注光刻机的消息,会发现网上各种光刻机突破,今天这家公司突破了,明天那家公司突破了,甚至是打破ASML的垄断等等……

也许都是网友们在自嗨,也许是真的突破,也不排除网友们在乱吹牛,乱沸腾。反正按照网上曝光的各种消息来看,国产EUV光刻机似乎都量产了N年了,因为各种突破,都比ASML技术更厉害一样,属于顶尖技术。

但时至今日呢?我们对外公开的光刻机精度,依然是90nm,连浸润式光刻机都造不出来,至于EUV光刻机,那就更别说了,可能在梦里吧。

说真的,我不是要泼冷水,我只是觉得不能量产的各种光刻机突破,都是纸上谈兵,没有用,除了可以自嗨。

一台光刻机的研发,从提出原理,再到生产原型机,最后到量产,再到交付实际使用,最终实现高良率,这条路是非常漫长的。

ASML的EUV光刻机,最开始是美国等几大厂商一起研究,提出原理进行验证,然后难证后,再交给ASML来制造。

从提出原理,到2006年ASML交付第一台EUV原型光刻机,实际经过了10多年。但ASML的第一代光刻机Alpha EUV,都是用于测试。

而到2010年才推出第二代EUV光刻机,型号是NXE:3100,还是用于测试。直到2013年ASML才真正推出了量产型号NEX:3300B。

可见,从原型机推出,到最后能规模量产的EUV光刻机,ASML都搞了7年,足见从理论到实际,需要的时间有多久了。

所以,目前时不时冒出来的什么光刻机突破,什么EUV光线突破,有多么的不靠谱。就算是靠谱的突破,从理论到真正实现量产,可能也是10年甚至更久之后的事情去了。

所以,我觉得,大家别自嗨,谨慎看待目前网上流传的各种五花八门的关于什么EUV光刻机突破的消息,靠不靠谱还两说,就算靠谱,也是短时间之内无法量产,先别激动。

当然,我不是说这些突破就不需要了,毕竟任何产品都是从理论开始的,但这中间需要一个极长的过程,先别吹牛,慢慢把基础打扎实了再说。

       原文标题 : EUV光刻机不断突破?不能量产,都是纸上谈兵,没有用的

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