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俄罗斯吹牛:投9亿元,在2028年研发出7nm芯片光刻机

众所周知,目前全球能够研制出用于芯片制造的光刻机的厂商,只有四家,分别是荷兰的ASML、日本的尼康、佳能,以及中国的上海微电子。

其中荷兰最牛,只有它一家能够生产EUV光刻机,也就是用于7nm及以下的芯片制造,而尼康、佳能、上海微电子相对差一些。

事实上,如果这些光刻机能够公平公正的对外销售,那么大家也不必过于担忧,不就是钱的事情嘛,一台EUV光刻机,几亿,十几亿,掏钱买就是了。

但问题是,EUV光刻机,甚至是低一档的浸润式光刻机,都是受管制的,比如中国大陆就买不到,另外像俄罗斯等国也是买不到的,因为美国不准ASML卖。

所以像中国、俄罗斯等,必须自研光刻机,甚至要自研出EUV光刻机这种级别的,能够用于7nm以下芯片制造的光刻机,才能掌握主动权,不被美国卡脖子。

俄罗斯的X射线光刻机原理

所以我们看到,国内在努力的研发光刻机,争取早日攻克浸润式光刻机,甚至EUV光刻机,以期突破美国+ASML对我们的封锁。

而俄罗斯也是在不断的努力,想在自研出高端光刻机来,去年就传出消息称,俄罗斯要研发X-射线光刻机,用于对抗ASML的EUV光刻机。

而近日,再次传出消息,俄罗斯科学院发豪言称 2028 年自行研发的光刻机将问世,可生产出 7nm 芯片。

为此,俄罗斯还向此项目提供 100 亿卢布(约9亿元人民币)信贷支持,而受资助企业包括集成电路成套工艺领域的 Integral 和精密光刻设备领域的 Planar。

不过目前俄罗斯科学家并没有详细说,这个可生产出7nm芯片的光刻机,究竟是何种技术,是EUV,还是NIL,或者X射频、DSA自组装、甚至是BEL电子束技术等。

当然很多人表示不相信,觉得目前俄罗斯是在吹牛,因为俄罗斯目前在半导体产业上是相当落后的,甚至远远落后于中国,中国投了这么多钱,这么久了,还没研发出可生产7nm芯片的光刻机。

再加上现在美国以及西方团体,在半导体领域是全面制裁俄罗斯,俄罗斯怎么可能实现这个目标呢?

但梦想还是要有的,万一实现了呢?而一旦俄罗斯搞定7nm光刻机,对于我们而言,也是一件大好事,俄罗斯的光刻机肯定是能够卖给我们的,你觉得呢?

当然,俄罗斯能不能研发出,都不影响我们的研发进度,我们必须要研发出自己的EUV级别的光刻机才行,别人有,不如自己有,这样主动权才在自己手中。

       原文标题 : 俄罗斯吹牛:投9亿元,在2028年研发出7nm芯片光刻机

声明: 本文由入驻维科号的作者撰写,观点仅代表作者本人,不代表OFweek立场。如有侵权或其他问题,请联系举报。

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